処理水質制御装置

Inventor： , , , , , , , , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：佐藤一雄 (外3名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1999051257
Publication number (International publication number)：2000246235
Application date： Feb. 26, 1999
Publication date： Sep. 12, 2000
Summary：

【要約】【課題】処理水質の安定化および向上を図ることができる処理水質制御装置を提供する。【解決手段】処理水質制御装置10は、流入する汚水量を予測する汚水量予測装置1と、下水処理施設50のプロセスデータを記憶するプロセスデータ記憶部3とを備えている。汚水量予測装置1で予測した汚水量とプロセスデータ記憶部3からのプロセスデータが操作量演算部20へ送られ、この操作量演算部20において下水処理施設50を制御するプロセス制御装置6への操作量が求められる。操作量演算部20からの操作量と、プロセスデータ記憶部3からのプロセスデータが予測演算部21へ送られ、この予測演算部21において下水処理施設のプロセス状態が予測される。予測演算部21において予測されたプロセス状態は、操作量演算部20へ送られ、操作量演算部20において操作量が再度演算される。

Claim (excerpt)：

流入する汚水を処理して処理水とする処理施設の処理水質制御装置において、流入する汚水量を予測する汚水量予測装置と、処理施設のプロセスデータを記憶するプロセスデータ記憶部と、処理施設の各機器を制御するプロセス制御装置と、汚水量予測装置からの汚水量とプロセスデータ記憶部からのプロセスデータとに基づいて、プロセス制御装置を制御する操作量を求める操作量演算部と、操作量演算部で求めた操作量と、プロセスデータ記憶部からのプロセスデータとに基づいて、処理施設のプロセス状態を予測するとともに、操作量演算部に対して操作量の演算を更新させる予測演算部と、を備えたことを特徴とする処理水質制御装置。

IPC (3)：

C02F 1/00 , C02F 3/12 , G01N 33/18 106

FI (3)：

C02F 1/00 T , C02F 3/12 H , G01N 33/18 106 Z

F-Term (7)：

4D028BC18 , 4D028CA09 , 4D028CA11 , 4D028CC01 , 4D028CC07 , 4D028CD01 , 4D028CE03

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (3)

下水処理プロセス制御装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平6-189335 Applicant：株式会社東芝
調整池揚水流量制御装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平7-126796 Applicant：株式会社東芝
浄水場の前/中塩素注入制御装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平4-234863 Applicant：株式会社明電舎

Cited by examiner (3)

下水処理プロセス制御装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平6-189335 Applicant：株式会社東芝
調整池揚水流量制御装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平7-126796 Applicant：株式会社東芝
浄水場の前/中塩素注入制御装置
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