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J-GLOBAL ID：200903070510356547

電子ビーム描画方法及びそれに用いる電子ビーム描画装置、当該方法を用いる成型用金型の製造方法、製造された金型、該金型にて成形された光学素子

Inventor： 増田 修 ,  古田 和三
Applicant, Patent owner： コニカミノルタホールディングス株式会社
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2003301140
Publication number (International publication number)：2004107793
Application date： Aug. 26, 2003
Publication date： Apr. 08, 2004
Summary：

【課題】 回折効率の低下や製品価値の低下を招かずに、光レンズに収差補正用回折構造を形成することが可能なレンズ成形型、更には光学収差補正素子等の光学素子成形型を、電子ビーム描画装置による描画を用いて作製すること。【解決手段】 電子ビームを照射して走査することにより基材に描画するにあたり、第1のドーズ量にて前記電子ビームを走査して描画する第1のステップと、第2のドーズ量にて前記電子ビームを走査して描画する第2のステップと、前記第1のドーズ量にて描画される部分と前記第2のドーズ量にて描画される部分とが混在する領域を設ける第3のステップと、を含む電子ビーム描画方法。【選択図】 図22

Claim (excerpt)：

電子ビームを照射して走査することにより基材に描画するにあたり、 第1のドーズ量にて前記電子ビームを走査して描画する第1のステップと、 第2のドーズ量にて前記電子ビームを走査して描画する第2のステップと、 前記第1のドーズ量にて描画される部分と前記第2のドーズ量にて描画される部分とが混在する領域を設ける第3のステップと、 を含むことを特徴とする電子ビーム描画方法。

IPC (2)：

C25D1/00 ,  C25D1/10

FI (2)：

C25D1/00 361 ,  C25D1/10

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (2)

• 2波長用回折光学素子、2波長光源装置および光ヘッド装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2000-248847   Applicant：旭硝子株式会社
• プレス成形方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平8-227087   Applicant：旭硝子株式会社

Cited by examiner (1)

• 光学素子の製造方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平3-275184   Applicant：松下電器産業株式会社