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J-GLOBAL ID:200903070628398376

パターン形成体およびその製造方法

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (2): 山下 昭彦 ,  岸本 達人
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2005182997
Publication number (International publication number):2007003755
Application date: Jun. 23, 2005
Publication date: Jan. 11, 2007
Summary:
【課題】 本発明は、種々の基材上に、高精細な機能性部を形成することが可能なパターン形成体、およびその製造方法を提供することを主目的としている。【解決手段】 上記目的を達成するために、本発明は、基材と、前記基材上に形成され、シランカップリング剤または前記シランカップリング剤の重合体を含有する中間層と、前記中間層上にパターン状に形成された樹脂層とを有するパターニング用基板に、前記樹脂層側からフッ素ガスを導入ガスとしてプラズマ照射するプラズマ照射工程を有することを特徴とするパターン形成体の製造方法を提供する。【選択図】 図1
Claim (excerpt):
基材と、前記基材上に形成され、シランカップリング剤または前記シランカップリング剤の重合体を含有する中間層と、前記中間層上にパターン状に形成された樹脂層とを有するパターニング用基板に、前記樹脂層側からフッ素ガスを導入ガスとしてプラズマ照射するプラズマ照射工程を有することを特徴とするパターン形成体の製造方法。
IPC (5):
G02B 5/20 ,  H05B 33/12 ,  H01L 51/50 ,  H05B 33/10 ,  C12M 3/00
FI (5):
G02B5/20 101 ,  H05B33/12 E ,  H05B33/14 A ,  H05B33/10 ,  C12M3/00 A
F-Term (26):
2H048BA02 ,  2H048BA11 ,  2H048BA55 ,  2H048BA56 ,  2H048BA58 ,  2H048BA60 ,  2H048BA64 ,  2H048BB02 ,  2H048BB24 ,  2H048BB41 ,  3K007AB15 ,  3K007AB18 ,  3K007BA06 ,  3K007BB06 ,  3K007DB03 ,  3K007FA01 ,  4B029AA08 ,  4B029AA21 ,  4B029BB11 ,  4B029CC02 ,  4B029CC08 ,  4B029GA08 ,  4B029GB05 ,  4B029GB06 ,  4B029GB09 ,  4B029GB10
Patent cited by the Patent:
Cited by applicant (1)
  • カラーフィルタ基板
    Gazette classification:公開公報   Application number:特願平10-363277   Applicant:セイコーエプソン株式会社
Cited by examiner (3)

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