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J-GLOBAL ID：200903045470807180

パターン形成体の製造方法

Inventor：
鵜野 雄介

About 鵜野 雄介

, 
小林 弘典

About 小林 弘典


Applicant, Patent owner：
大日本印刷株式会社

About 大日本印刷株式会社


Agent (2)： 山下 昭彦 ,  岸本 達人
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2003130293
Publication number (International publication number)：2004333914
Application date： May. 08, 2003
Publication date： Nov. 25, 2004
Summary：
【課題】高精細にパターンを形成することが可能であり、かつ連続してパターン形成体の製造を行う際にも、光触媒含有層の酸化分解力が一定であり、形成されたパターンの形状を制御することが可能なパターン形成体の製造方法を提供する。【解決手段】光エネルギー照射に伴う光触媒の作用により特性が変化し、かつハロゲンを含有しない特性変化層2を有するパターン形成体用基板3と、光触媒を含有する光触媒含有層5および基体4を有する光触媒含有層側基板6とを、前記特性変化層2および前記光触媒含有層5が200μm以下となるように間隙をおいて配置した後、所定の方向からエネルギー8を照射することにより、前記特性変化層2表面に特性の変化した特性変化パターン9を形成するパターン形成工程を有することを特徴とする。【選択図】 図1
Claim (excerpt)：
エネルギー照射に伴う光触媒の作用により特性が変化し、かつハロゲンを含有しない特性変化層を有するパターン形成体用基板と、光触媒を含有する光触媒含有層および基体を有する光触媒含有層側基板とを、前記特性変化層および前記光触媒含有層が200μm以下となるように間隙をおいて配置した後、所定の方向からエネルギーを照射することにより、前記特性変化層表面に特性の変化した特性変化パターンを形成するパターン形成工程を有することを特徴とするパターン形成体の製造方法。
IPC (1)：
G02B5/20
FI (1)：
G02B5/20 101
F-Term (8)：
2H048BA02 ,  2H048BA11 ,  2H048BA55 ,  2H048BA56 ,  2H048BA58 ,  2H048BA60 ,  2H048BA64 ,  2H048BB02
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (8)
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