極紫外線光源

Inventor： , , , , , , , , , , , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (4)：熊倉禎男 , 大塚文昭 , 今城俊夫 , 西島孝喜
Gazette classification：公表公報
Application number (International application number)：2003584754
Publication number (International publication number)：2005522839
Application date： Apr. 09, 2003
Publication date： Jul. 28, 2005
Summary：

本発明は、信頼性があり、繰り返し速度が高く、製造ラインと相性の良い高エネルギー光子源を提供する。活性材料を含む非常に高温のプラズマを真空チャンバで生成する。この活性材料は、望ましい極紫外線(EUV)範囲内に輝線を有する原子である。充電コンデンサと、パルス変換器を備えた磁気圧縮回路とを具備したパルス電源は、中間焦点でのEUV光を5ワットを超える率で生成できるだけのエネルギーと電位を有する電気的パルス提供する。出願人が設計した好適な実施形態では、中間焦点における帯域内EUV光エネルギーは45ワットで、更に105.8ワットまで拡大可能である。

Claim (excerpt)：

生産ラインと相性の良い、高い繰り返し速度と高い平均出力を有するパルス駆動高エネルギー光子ソースにおいて、 A.10nsから200nsの範囲の持続時間で電気的パルスを生成するためのパルス変成器を備えたパルスパワーシステムと、 B.真空チャンバと、 C.前記真空室内に入れられた、所望の極紫外線波長範囲内の輝線で特徴付けられる原子種を含んでいる活性材料と、 D.前記所望の極紫外線波長範囲内の波長における少なくとも極紫外線放射線に亘る平均が少なくとも5ワットになるように、前期真空チャンバ内の高温プラズマスポットに高温プラズマを生成するための高温プラズマ生成手段と、 E.前記紫外線放射線の一部を集め、前記高温プラズマスポットから離れた場所に前記放射線を集束するための放射線収集及び集束手段と、を備えていることを特徴とするソース。

IPC (6)：

H05G2/00 , G21K5/00 , G21K5/02 , H01L21/027 , H05H1/06 , H05H1/24

FI (6)：

H05G1/00 K , G21K5/00 Z , G21K5/02 X , H05H1/06 , H05H1/24 , H01L21/30 531S

F-Term (5)：

4C092AA06 , 4C092AA20 , 4C092AB06 , 4C092AC09 , 5F046GC03

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (24)

2003年4月7日出願米国特許出願「極紫外線光源」
米国特許第6,452,199号
米国特許第5,142,166号

米国特許第5,668,848号

米国特許第5,539,764号

米国特許第5,434,875号

米国特許出願第10/187,366号

米国特許第6,128,323号

米国特許第6,330,261号

米国特許第6,442,181号

米国特許第6,477,193号

米国特許出願第10/384,967号

米国特許出願第09/854,097号

米国特許出願第09/943,343号

米国特許出願第10/012,002号

米国特許出願第10/036,676号

米国特許第6,299,958号

米国特許出願第10/189,824号

米国特許出願第10/120,655号

米国特許出願第09/875,719号

米国特許出願第09/875,721号

米国特許出願第09/690,084号

特許出願第60/422,808号

特許出願第60/419,805号

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Cited by examiner (3)

特許第2942544号
特許第2942544号
平版投影装置用の照射源
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2000-404229 Applicant：エイエスエムリトグラフィーベスローテンフエンノートシャップ

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