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J-GLOBAL ID：200903050116223700

平版投影装置用の照射源

Inventor： ヘンリク、フィードロウィクズ ,  フレデリク、ビユケルク ,  コルネリス コルネラ、デ ブルイユン ,  アンドルゼユ、バルトニク ,  コンスタンチン ニコラエビッチ、コシェレブ ,  バディム イエブゲニエビッチ、バニネ
Applicant, Patent owner： エイエスエム リトグラフィー ベスローテン フエンノートシャップ
Agent (1)： 浅村 皓 (外3名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2000404229
Publication number (International publication number)：2001311799
Application date： Dec. 14, 2000
Publication date： Nov. 09, 2001
Summary：

【要約】 (修正有)【課題】 平板投影装置用の照射源として使用しうるEUV放射線を放射する改良されたプラズマ源を提供する。【解決手段】 平板投影装置の照射系の照射源220は放電がピンチ容積229内へ崩壊するように間に放電を生じさせる電極221,222を含む。崩壊する放電はピンチ容積において強くイオン化された、高温のプラズマを生じさせる。供給源227の作業流体が噴射ノズルからピンチ容積内へ放出され、それにより高温状態まで昇温され、遠紫外線PBを放射する。

Claim (excerpt)：

遠紫外線電磁放射線用のプラズマ照射源において、高電位源に接続され、第1のプラズマ状態が該第1のプラズマ状態と対応の電磁界に誘導された電流によってピンチ容積に圧縮されうるように構成配置された電極と、高温のプラズマ状態にされて遠紫外電磁放射線を放射する作業流体の供給源と、前記第1のプラズマ状態を前記ピンチ容積内へ圧縮することによって前記高温のプラズマ状態にされるように前記作業流体を前記ピンチ容積内に排出するように構成配置された一次噴射ノズルとを含むことを特徴とする遠紫外線電磁放射線用のプラズマ照射源。

IPC (7)：

G21K 5/00 ,  B01J 19/08 ,  G03F 7/20 502 ,  G03F 7/20 521 ,  H01L 21/027 ,  H05H 1/06 ,  H05H 1/24

FI (7)：

G21K 5/00 Z ,  B01J 19/08 E ,  G03F 7/20 502 ,  G03F 7/20 521 ,  H05H 1/06 ,  H05H 1/24 ,  H01L 21/30 531 S

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (14)

• プラズマ・フォーカス高エネルギ・フォトン・ソース
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平10-127187   Applicant：サイマーインコーポレイテッド
• 特開平3-129700
  
• 特開平3-192697
  
• 特開平3-129700
  
• ピンチプラズマの発生方法および装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平10-028964   Applicant：株式会社富士電機総合研究所, 工業技術院長
• 特開昭63-281336
  
• 特開昭63-048733
  
• 特開昭63-281336
  
• 特開平1-243349
  
• 特開昭63-048733
  
• ピンチプラズマの発生装置およびその発生方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平4-208288   Applicant：石井彰三, 富士電機株式会社
• 特開平1-243349
  
• プラズマ放射光の照射方法および装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平5-334009   Applicant：工業技術院長, 株式会社富士電機総合研究所
• ピンチプラズマの発生方法および装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平8-346856   Applicant：工業技術院長, 株式会社富士電機総合研究所