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J-GLOBAL ID:200903070679086956
連続発光エキシマレーザ発振装置及び発振方法、露光装置並びにレーザ管
Inventor:
,
,
Applicant, Patent owner:
,
Agent (1):
福森 久夫
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1997006441
Publication number (International publication number):1998163553
Application date: Jan. 17, 1997
Publication date: Jun. 19, 1998
Summary:
【要約】【課題】 レンズ材料やその表面への負荷が少なく、かつ、ミラーもしくはレンズスキャンの制御系が簡略にすることができる連続発光エキシマレーザ発振装置・発振方法及び露光装置、レーザ管を提供すること。【解決手段】 Kr,Ar,Ne等の不活性ガスとF2ガスが混合され、レーザガスを収納するためのレーザチャンバと、一対の反射鏡からなる光共振器とを有するエキシマレーザ発振装置において、該レーザガスを収容するためのレーザチャンバの内表面をフッ化物で構成し、かつ248nm、193nmといった所望の波長の光に対する無反射面とするとともに、該レーザーガスを連続的に励起するためのマイクロ波の導入手段を設けた、出力側反射鏡前記波長の光に対する90%以上の反射率としたことを特徴とする。レーザガスは連続的に供給することが好ましく、また、F2濃度は、1〜6%、圧力を数10Torr〜1atmが好ましい。
Claim (excerpt):
Kr,Ar,Neから選ばれた1種以上の不活性ガスとF2ガスとの混合ガスからなるレーザガスを収納するためのレーザ管からなるレーザチャンバと、該レーザチャンバを挟んで設けられた一対の反射鏡からなる光共振器とを有するエキシマレーザ発振装置において、該レーザガスを収容するためのレーザチャンバの内面を、248nm、193nm、157nmといった所望の波長の光に対する無反射面とするとともに、該内面の最表面をフッ化物で構成し、該レーザチャンバ内のレーザガスを連続的に励起するためのマイクロ波の導入手段を設け、さらに、出力側の反射鏡の反射率を90%以上としたことを特徴とする連続発光エキシマレーザ発振装置。
IPC (7):
H01S 3/0973
, G03F 7/20 505
, H01L 21/027
, H01S 3/034
, H01S 3/036
, H01S 3/041
, H01S 3/134
FI (7):
H01S 3/097 C
, G03F 7/20 505
, H01S 3/134
, H01L 21/30 515 B
, H01S 3/03 G
, H01S 3/03 J
, H01S 3/04 G
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (8)
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特開平2-241074
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特開平2-078283
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特開平2-175855
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マイクロ波放電励起レーザ
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平4-309740
Applicant:株式会社高岳製作所, 神藤正士
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特開平2-133974
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特開平4-359404
-
露光量制御方法および装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平6-253854
Applicant:日本電気株式会社
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連続発光エキシマレーザ発振装置及び発振方法、露光装置並びにレーザ管
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平9-097648
Applicant:大見忠弘, キヤノン株式会社
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