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J-GLOBAL ID:200903070699329812
干渉計測装置及び格子干渉式エンコーダ
Inventor:
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Applicant, Patent owner:
Agent (1):
日比谷 征彦
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1999066798
Publication number (International publication number):2000258124
Application date: Mar. 12, 1999
Publication date: Sep. 22, 2000
Summary:
【要約】【課題】 複数の安定した位相差信号を一括して検出する小型かつ簡素な装置を実現する。【解決手段】 可干渉光源からのレーザー光を光学式プローブ状偏光プリズムにより2分割し、それぞれの光路を経由した光束の波面の位相を変調し、互いに直交する直線偏光として波面を重ね合わせた後に、非偏光ビームスプリッタで反射し、開口板を通って、4分割回折格子27で4つの等価な光束に振幅分割する。この光束は、予め部分的にエッチング処理して4つの段差を設けた水晶板28の異なる部分を透過し、各透過光束を偏光板32bにより45度偏光成分が取り出され、各干渉光束が受光素子45の4つの領域45a〜45dに受光されて、4つの位相差信号が得られる。
Claim (excerpt):
可干渉光束を2分割し、それぞれの光路を経由した光束の波面の位相を変調して互いに直交する直線偏光光束とし、該直線偏光光束の波面を再び重ね合わせるための光学部材と、該光学部材により重ね合わせた光束を複数じ光束に分割する光分割部材と、1枚の基板上に前記複数の光束の入射位置に応じて所定の段差を形成した水晶板と、該水晶板を透過した各光束を45度偏光成分で取り出す偏光板と、該偏光板により取り出した各光束を受光して複数の互いに異なる干渉位相信号を発生する受光手段とを有することを特徴とする干渉計測装置。
IPC (3):
G01B 11/00
, G01B 9/02
, G01D 5/26
FI (3):
G01B 11/00 H
, G01B 9/02
, G01D 5/26 F
F-Term (33):
2F064AA01
, 2F064AA06
, 2F064CC04
, 2F064FF02
, 2F064GG12
, 2F064GG13
, 2F064GG32
, 2F064GG38
, 2F064HH01
, 2F064HH06
, 2F065AA21
, 2F065AA31
, 2F065DD02
, 2F065DD03
, 2F065FF51
, 2F065GG04
, 2F065GG06
, 2F065JJ24
, 2F065LL12
, 2F065LL32
, 2F065LL36
, 2F065LL37
, 2F065LL46
, 2F103BA37
, 2F103BA43
, 2F103CA08
, 2F103EB02
, 2F103EB13
, 2F103EB15
, 2F103EC03
, 2F103EC11
, 2F103EC13
, 2F103EC14
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (11)
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特開平1-250803
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変位検出装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平7-183486
Applicant:キヤノン株式会社
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位相差検出器
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平4-315109
Applicant:オリンパス光学工業株式会社
-
特開昭64-028675
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波長板およびそれを備えた光ピックアップ装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平8-262907
Applicant:株式会社三協精機製作所
-
特開昭63-077181
-
透明基板の検査方法および透明基板の検査装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平10-352676
Applicant:株式会社日本マクシス
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定点検出装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平6-064224
Applicant:ソニーマグネスケール株式会社
-
回折格子の製造方法及びそれを用いて製造した半導体レーザならびにそれを用いた光応用システム
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平9-108572
Applicant:株式会社日立製作所, 株式会社日立超エル・エス・アイ・システムズ
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特開昭61-174502
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超解像撮像装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平5-061763
Applicant:オリンパス光学工業株式会社
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