デジタルホログラフィを利用した変位分布計測方法

Inventor： , , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：杉村興作
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2004074444
Publication number (International publication number)：2005265441
Application date： Mar. 16, 2004
Publication date： Sep. 29, 2005
Summary：

【課題】位相シフトデジタルホログラフィを利用した変位分布計測方法において、スペックルパターンやハレーションによる誤差を低減する。【解決手段】本発明では、デジタルホログラムを再生する際、窓関数を用いて再生する。再生に当たり、変形前後のデータから物体表面の強度分布及び位相分布を求める。窓領域を単位として、変形前後の強度和を求め、強度和が最大となる画素の変形前後の位相差を当該画素における位相差とする。この処理を全画素について行い、物体全体の変形前後の位相差を求める。強度和が最大の窓領域のデータを用いることにより、一番明るい窓領域のデータを用いることになり、スペックルパターンに起因するノイズの影響を大幅に低減することができる。【選択図】図1

Claim (excerpt)：

物体の像を位相シフトデジタルホログラフィによりデジタルホログラムとして記録し、記録したデジタルホログラムから物体の変位分布ないし変形分布を位相情報として計測する変位分布計測方法において、第1の状態において、参照光の位相を所定量だけ順次シフトさせながら物体の像を2次元撮像装置により撮像し、干渉縞をデジタルデータとして記録して第1の状態におけるデジタルホログラムを作成する工程と、第1の状態から変形又は変位した第2の状態において、参照光の位相を所定量だけシフトさせながら前記物体の像を2次元撮像装置により撮像し、干渉縞をデジタルデータとして記録して第2の状態におけるデジタルホログラムを作成する工程と、前記第1の状態のデジタルホログラムに窓関数をかけて再生し、複数の窓領域について、第1の状態の強度分布及び位相分布を画素毎に求める工程と、前記第2の状態におけるデジタルホログラムに前記窓関数と同一の窓関数をかけて再生し、複数の窓領域について、第2の状態の強度分布及び位相分布を画素毎に求める工程と、前記第1の状態の位相分布と第2の状態の位相分布との間の位相差を各画素毎に各窓領域を単位として求める工程と、前記第1又は第2の状態の各画素の強度、又は第1の状態の強度と第2の状態の強度との強度和に基づいて前記位相差を各画素毎に選択する工程とを具えることを特徴とする変位分布計測方法。

IPC (2)：

G01B9/021 , G01B11/00

FI (2)：

G01B9/021 , G01B11/00 G

F-Term (35)：

2F064AA02 , 2F064CC01 , 2F064DD01 , 2F064DD08 , 2F064EE02 , 2F064GG13 , 2F064GG22 , 2F064GG47 , 2F064GG53 , 2F064HH03 , 2F064HH08 , 2F064JJ01 , 2F064LL03 , 2F065AA09 , 2F065DD04 , 2F065FF52 , 2F065FF54 , 2F065GG04 , 2F065GG06 , 2F065HH03 , 2F065HH13 , 2F065JJ03 , 2F065JJ09 , 2F065JJ26 , 2F065LL00 , 2F065LL04 , 2F065LL09 , 2F065LL46 , 2F065QQ00 , 2F065QQ03 , 2F065QQ17 , 2F065QQ23 , 2F065QQ26 , 2F065QQ27 , 2F065QQ42

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (4)

ディジタル・ホログラムを数値的に再構成することにより、振幅コントラスト画像と定量的位相コントラスト画像を同時に形成する方法と装置
Gazette classification：公表公報 Application number：特願2000-574990 Applicant：エコールポリテクニークフェデラルドゥローザンヌ(エーペーエフエル)
特開平4-227590
高分解能周波数分析装置及びこの装置を用いたホログラム観測装置、ベクトルスペクトル解析装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平4-311956 Applicant：株式会社アドバンテスト

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Article cited by the Patent：

Cited by examiner (1)

光波コヒーレンス関数の合成による光情報処理-ノッチ型コヒーレンス関数の合成-

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