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J-GLOBAL ID：200903070809681380

パターン評価装置およびパターン評価方法

Inventor： 東條 徹 ,  田畑 光雄 ,  明野 公信 ,  渡辺 利之 ,  渡辺 智英 ,  山中 栄二 ,  伊藤 力 ,  田谷 真
Applicant, Patent owner： 株式会社東芝 ,  株式会社トプコン
Agent (1)： 鈴江 武彦
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1994221871
Publication number (International publication number)：1996087102
Application date： Sep. 16, 1994
Publication date： Apr. 02, 1996
Summary：

【要約】【目的】本発明は、ペリクル付きマスクを用いても広い領域において高感度にパターンを評価することができる装置および方法を提供することを目的とする。【構成】光源からの光をパターンを有する試料上で集光させる集光手段と、前記試料の後段に配置されており、前記試料を透過した光が通る対物レンズと、前記対物レンズの後段に配置されており、前記対物レンズを通過した光の径を絞る開口部材と、前記開口部材の後段に配置されており、前記開口部材により絞られた光を受光する受光素子と、前記受光素子により受光された前記パターンに対応する情報に基づいて前記パターンを評価する判定手段とを具備し、前記開口部材は、前記試料におけるペチクルの有無に応じて開口数を変えることができることを特徴としている。

Claim (excerpt)：

光源からの光をパターンを有する試料上で集光させる集光手段と、前記試料の後段に配置されており、前記試料を透過した光が通る対物レンズと、前記対物レンズの後段に配置されており、前記対物レンズを通過した光の径を絞る開口部材と、前記開口部材の後段に配置されており、前記開口部材により絞られた光を受光する受光素子と、前記受光素子により受光された前記パターンに対応する情報に基づいて前記パターンを評価する判定手段と、を具備し、前記開口部材は、前記試料におけるペリクルの有無に応じて開口数を変えることができることを特徴とするパターン評価装置。

IPC (2)：

G03F 1/08 ,  H01L 21/027

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (2)

• マスク検査装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平4-115100   Applicant：株式会社東芝
• 異物検査装置及び半導体装置の製造方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平3-297408   Applicant：セイコーエプソン株式会社