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J-GLOBAL ID：200903070898939204

ポリシロキサン化合物及びポジ型レジスト材料

Inventor： 竹村 勝也 ,  土谷 純司 ,  渡辺 修 ,  石原 俊信
Applicant, Patent owner： 信越化学工業株式会社
Agent (1)： 小島 隆司
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1995270580
Publication number (International publication number)：1997087391
Application date： Sep. 25, 1995
Publication date： Mar. 31, 1997
Summary：

【要約】【解決手段】 下記一般式(I)で表されるポリシロキサン化合物。【化1】【効果】 本発明のポリシロキサン化合物は、ポジ型レジスト材料のアルカリ可溶性ポリマーとして有用であり、特に2層レジスト材料の化学増幅型シリコーン系ポジ型レジスト材料におけるアルカリ可溶性ポリマーとして使用されて、下層界面に裾ひき現象が生じたり、シリコーンレジスト膜表面に表面難溶層が生じるといった問題を解消し得る。

Claim (excerpt)：

下記一般式(I)で表されるポリシロキサン化合物。【化1】

IPC (7)：

C08G 77/14 NUG ,  G03F 7/004 503 ,  G03F 7/029 ,  G03F 7/039 501 ,  G03F 7/075 511 ,  G03F 7/30 ,  H01L 21/027

FI (7)：

C08G 77/14 NUG ,  G03F 7/004 503 ,  G03F 7/029 ,  G03F 7/039 501 ,  G03F 7/075 511 ,  G03F 7/30 ,  H01L 21/30 502 R

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (2)

• 特開昭63-101427
  
• ポジ型レジスト材料
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平4-294009   Applicant：日本電信電話株式会社

Cited by examiner (2)

• 特開昭63-101427
  
• ポジ型レジスト材料
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平4-294009   Applicant：日本電信電話株式会社