基板冷却装置

Inventor： ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：杉谷勉
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1994039182
Publication number (International publication number)：1995226371
Application date： Feb. 14, 1994
Publication date： Aug. 22, 1995
Summary：

【要約】【目的】応答性を低下させることなく基板面内を均一に冷却することができる基板冷却装置を提供する。【構成】基板載置プレート2に形成された作動液収容室20内には、所定温度で蒸発する作動液22が封入されている。作動液22中から作動液収容室20の天井面にわたって、毛管現象を起こす下部ウィック26と上部ウィック28が配設されている。基板Wが基板載置プレート2に載置されると、上部ウィック28まで上昇された作動液22が蒸発し、潜熱を吸収して基板載置プレート2を冷却する。結果、基板Wが冷却される。そして、作動液22が気化して蒸気空間24に滞留している蒸気は、冷却配管40によって凝縮液化される。この冷却作用は、基板Wが作動液22の沸点にほぼ一致するまで行なわれる。

Claim (excerpt)：

被処理基板を基板載置プレートに載置または近接載置して、前記被処理基板を所定温度に冷却する基板冷却装置において、前記基板載置プレート内に、所定温度で蒸発する作動液を収容した作動液収容室を形成し、かつ、前記作動液が気化して発生した蒸気を滞留する蒸気空間を前記作動液収容室に形成し、前記作動液収容室内の作動液中から天井面にわたって毛管現象を呈する毛管構造体を配設するとともに、前記蒸気空間に滞留する蒸気を冷却するための冷却手段を前記作動液収容室に付設してあることを特徴とする基板冷却装置。

IPC (3)：

H01L 21/027 , G11B 11/10 591 , H01L 21/68

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (4)

特開平1-168026
特開平3-138923
特開昭63-199423

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Cited by examiner (1)

特開平1-168026

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