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J-GLOBAL ID：200903071197224266

磁気デバイス

Inventor： 市原 勝太郎 ,  大久保 通子
Applicant, Patent owner： 株式会社東芝
Agent (1)： 鈴江 武彦
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1994283068
Publication number (International publication number)：1996148334
Application date： Nov. 17, 1994
Publication date： Jun. 07, 1996
Summary：

【要約】【目的】 信頼性に優れているとともに、高精度な加工が容易な磁性薄膜パターンを有する磁気デバイスを提供する。【構成】 Fe、Co、Niから選択される少なくとも1種の元素を含有する磁性薄膜(3)のパターンと、磁性薄膜(3)のパターンの側壁上に直接被着された第1の被着膜(4)と、第1の被着膜(4)の外側に被着された、第1の被着膜(4)と材質または構造が異なる第2の被着膜(5)とを有する。

Claim (excerpt)：

Fe、Co、Niから選択される少なくとも1種の元素を含有する磁性薄膜のパターンと、前記磁性薄膜のパターンの側壁上に直接被着された第1の被着膜と、前記第1の被着膜の外側に被着された第2の被着膜とを具備したことを特徴とする磁気デバイス。

IPC (4)：

H01F 10/00 ,  G01R 33/09 ,  G11B 5/31 ,  H01L 43/08

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (4)

• 特開平2-165406
  
• 特開平3-232109
  
• 特開昭54-104812
  
• 微細導電パターンの形成方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平4-332510   Applicant：ミツミ電機株式会社

Cited by examiner (5)

• 特開昭54-104812
  
• 特開平2-165406
  
• 微細導電パターンの形成方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平4-332510   Applicant：ミツミ電機株式会社
• 特開平3-232109
  
• 特開昭54-104812