現像装置

Inventor：
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：樺澤襄 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1995068353
Publication number (International publication number)：1996262741
Application date： Mar. 27, 1995
Publication date： Oct. 11, 1996
Summary：

【要約】【目的】基板の移し代えを要することなく、現像処理直後に洗浄しても、現像排液と純水とを確実に分離できる現像装置を提供する。【構成】回転機構11で基板15を回転させ、現像液吐出ノズル17から現像液を供給し、余剰分の現像液を基板15上から振り切り、外方に向けて飛散する。可動容器36の周面部37の内周面に衝突して排液回収部39に捕らえられるか、カバー46を伝わって下部の排液回収部39に流れ落ちる。排液回収部39から排液配管40を通って排液タンクに排出し、回収する。上下駆動機構44により可動容器36を下降させる。純水吐出ノズル18から純水を供給して純水置換する。純水を基板15上から振り切り、外方に向けて飛散する。可動容器36の内周面には飛散した純水が衝突することなく、固定容器30の周面部31の内周面に衝突して捕らえられるか、連続する整流板を経て外方に流れる。現像液および純水をそれぞれ別個に回収する。

Claim (excerpt)：

回転機構により回転駆動されている基板の表面に現像液を供給するとともに、この現像液により現像処理された基板の表面に洗浄液を供給する現像装置において、前記回転機構の少なくとも外周部分を覆って前記回転による前記基板の表面からの前記現像液および前記洗浄液のいずれか一方を捕らえて回収する第1の容器と、この第1の容器の内側に同軸状に前記基板に対して相対的に上下動可能に設けられ前記基板の表面からの前記現像液および前記洗浄液のいずれか他方を捕らえて回収する第2の容器とを備え、前記基板が前記第1の容器に対応する位置に位置する場合には、前記第1の容器に基板の表面からの前記現像液および前記洗浄液のいずれか一方を回収し、前記基板が前記第2の容器に対応する位置に位置する場合には、前記第2の容器に基板の表面からの前記現像液および前記洗浄液のいずれか他方を回収することを特徴とした現像装置。

IPC (2)：

G03F 7/30 501 , G02F 1/13 101

FI (2)：

G03F 7/30 501 , G02F 1/13 101

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (1)

薬液処理装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平4-003304 Applicant：株式会社日立製作所

Return to Previous Page