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J-GLOBAL ID:200903071327715925

領域的イメージを測定する装置及び方法

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 合田 潔 (外4名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1994088338
Publication number (International publication number):1995028226
Application date: Apr. 26, 1994
Publication date: Jan. 31, 1995
Summary:
【要約】 (修正有)【目的】フェーズ・シフト・マスクを使って実際のフォトレジスト・パターンを露光することなく、そのマスクの実際の特性を決定する装置及び方法を提供する。【構成】フォトリトグラフ・マスクの特性を決定するための装置は、多重波長の光源と、周波数選択手段と、コヒーレンス調節手段と、オブジェクトの位置づけ手段と、数値的アパーチャ調節手段を含み且つマスクの拡大した光学的に等価のイメージ生成手段と、イメージ捕捉手段とより成る。フォトリトグラフ・マスクの性能を表わすイメージを得るための方法は、選択された周波数の電磁エネルギーを与え、そのエネルギーのコヒーレンスを調節し、その電磁エネルギーがフォトリトグラフ・マスクの選択された部分を照射するようにそのフォトリトグラフ・マスクを位置付け、そのマスクの拡大された光学的に等価のステッパ(stepper)イメージを生成し、その生成されたイメージを捕捉するステップとより成る。
Claim (excerpt):
イメージ測定システムにして、光源と、選択された周波数の光を供給するための手段と、該光のコヒーレンスを調節するためのコヒーレンス調節手段と、該システムに関してオブジェクトを調節可能に位置付けるための位置付け手段と、該オブジェクトの拡大された光学的に等価のステッパ・イメージを生成するためのイメージ手段にして、開口数を調節するための調節手段を含むものと、該イメージ手段によって生成されたイメージを捕捉するためのイメージ捕捉手段と、より成るシステム。
IPC (3):
G03F 1/08 ,  G01N 21/88 ,  H01L 21/027
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (3)
  • 特開平4-100045
  • 特開平4-229863
  • マスク検査装置
    Gazette classification:公開公報   Application number:特願平4-115100   Applicant:株式会社東芝

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