投影光学系の収差測定方法

Inventor： , ,
Applicant, Patent owner：
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1996339703
Publication number (International publication number)：1998176974
Application date： Dec. 19, 1996
Publication date： Jun. 30, 1998
Summary：

【要約】【課題】投影光学系等の像の非対称量を求める際に走査型電子顕微鏡等の複雑な顕微鏡を用いずに、高速且つ高精度に投影光学系等の収差量を計測する。【解決手段】投影光学系の収差量を測定する収差測定方法であって、ラインアンドスペースパターンと孤立線パターンのいずれかを含むパターンを施したマスクを該投影光学系の光路中に配置する工程と、レジストが塗布された基板を該投影光学系の投影位置に配置する工程と、前記パターンを該投影光学系で該基板のレジスト上に投影して露光する工程と、該露光された基板を現像する工程と、該現像する工程により基板上に形成されたレジストによるラインアンドスペースパターンの像又は孤立線パターンの像の位置のずれの量を測定する工程とを備える収差測定方法と、その方法に用いるパターンを施したマスク。これにより、電子顕微鏡を用いることなく収差量を迅速かつ高精度に計測できる。

Claim (excerpt)：

投影光学系の収差量を測定する収差測定方法であって、ラインアンドスペースパターンと孤立線パターンのいずれかを含むパターンを施したマスクを該投影光学系の光路中に配置する工程と、レジストが塗布された基板を該投影光学系の投影位置に配置する工程と、前記パターンを該投影光学系で該基板のレジスト上に投影して露光する工程と、該露光された基板を現像する工程と、該現像する工程により基板上に形成されたレジストによるラインアンドスペースパターンの像又は孤立線パターンの像の位置のずれの量を測定する工程とを備える、収差測定方法。

IPC (2)：

G01M 11/00 , G01M 11/02

FI (2)：

G01M 11/00 T , G01M 11/02 B

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (6)

特開昭63-132428
特表平7-502380
特公昭63-038697

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Cited by examiner (8)

特開昭63-132428
特公昭63-038697
特表平7-502380

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