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J-GLOBAL ID：200903071410801914

化粧料

Inventor： 内野 祥子 ,  佐藤 郁夫 ,  松岡 伸互 ,  青木 憲二 ,  平木 純
Applicant, Patent owner： チッソ株式会社
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2000145142
Publication number (International publication number)：2001328920
Application date： May. 17, 2000
Publication date： Nov. 27, 2001
Summary：

【要約】 (修正有)【課題】グラム陰性菌の腐敗が起こりにくく、且つ人の肌に塗布しても皮膚刺激が起こりにくい化粧料の提供。【解決手段】アニオン系化合物から選ばれた1種以上とε-ポリリジンおよびその塩から選ばれた1種以上とをあわせて化粧料とする。更に有機酸塩、無機酸塩あるいはPH緩衝能を有する物質を配合することができる。

Claim (excerpt)：

アニオン系化合物から選ばれた1種以上とε-ポリリジンおよびその塩の中から選ばれた1種以上とを含有する化粧料。

FI (4)：

A61K 7/00 Z ,  A61K 7/00 C ,  A61K 7/00 J ,  A61K 7/00 M

F-Term (20)：

4C083AA112 ,  4C083AB032 ,  4C083AB281 ,  4C083AB331 ,  4C083AB351 ,  4C083AB352 ,  4C083AC112 ,  4C083AC231 ,  4C083AC291 ,  4C083AC292 ,  4C083AC301 ,  4C083AC302 ,  4C083AC581 ,  4C083AC582 ,  4C083AD332 ,  4C083AD411 ,  4C083AD412 ,  4C083BB48 ,  4C083CC04 ,  4C083EE03

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (4)

• 化粧料
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平11-251239   Applicant：株式会社ナリス化粧品
• 化粧料
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平11-082149   Applicant：株式会社ナリス化粧品
• 特開昭61-243010
  
• 特開昭62-286918