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J-GLOBAL ID：200903071744633885

遠赤外線殺菌方法および装置

Inventor： 西坂 剛 ,  脇田 政嘉 ,  小林 亜紀子 ,  杉山 征司
Applicant, Patent owner： 杉山 征司
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2003279622
Publication number (International publication number)：2005040475
Application date： Jul. 25, 2003
Publication date： Feb. 17, 2005
Summary：

【課題】 従来,食品産業の分野では細菌の殺菌や増殖抑制あるいは増殖停止のため,蒸気雰囲気,乾熱や煮沸処理,化学薬品添加,赤外線照射など各種の方法が採用されてきた.しかしこれらの方法はその処理過程において,食品の鮮度や品質の劣化をきたし,殺菌方法の使用上の制限や制約が存在していた.遠赤外線を利用した殺菌法は提案されているものの,遠赤外線の有効特定波長の特定に至っていない現状にあった.【解決手段】上記課題を解決するため,細菌を構成する特定タンパクの遠赤外領域における吸収波長を食品に照射することにより,細菌を死に至らしめあるいは非活性化.発育抑制を行う方法と手段を提供する.特定波長の遠赤外照射手段として,反射および透過板を必要に応じ選択あるいは合わせ使用する手段を有する.【選択図】 図 2

Claim (excerpt)：

特定波長の遠赤外線を目的物体に照射する事により殺菌を行う方法および装置

IPC (2)：

A61L2/08 ,  A23L3/26

FI (2)：

A61L2/08 ,  A23L3/26

F-Term (11)：

4B021LA41 ,  4B021LP10 ,  4B021LT03 ,  4C058AA12 ,  4C058AA21 ,  4C058BB06 ,  4C058KK05 ,  4C058KK14 ,  4C058KK28 ,  4C058KK33 ,  4C058KK50

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (3)

• 特開昭56-164775号
  
• 特公平8-15420号
  
• 遠赤外線放射球
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平4-330877   Applicant：昭和デバイスプラント株式会社, 和泉正彦