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J-GLOBAL ID:200903071797653845

オートサーマルリフォーミング方法および装置

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 金田 暢之 (外2名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2002106622
Publication number (International publication number):2003306305
Application date: Apr. 09, 2002
Publication date: Oct. 28, 2003
Summary:
【要約】【課題】 オートサーマルリフォーミング(ATR)において、触媒層入り口側の温度上昇と、出口側における温度低下とを抑制し、触媒層内の温度分布を緩やかにする。【解決手段】 水素を含有する改質ガスを製造するATR方法において、改質原料、酸素含有ガスおよび水蒸気が供給される触媒層の断面積および長さをそれぞれS(cm2)およびL(cm)としたとき、該改質原料の炭素と水素の原子比C/Hが0.25を超え0.40以下の場合L/S=2〜30(cm-1)、0.40を超え0.42以下の場合L/S=1〜20(cm-1)、0.42を超え0.47以下の場合L/S=0.5〜15(cm-1)、0.47を超え0.58以下の場合L/S=0.5〜10(cm-1)とする。L/Sが最適化されたATR装置。L/Sが可変のATR装置。
Claim (excerpt):
改質原料、酸素含有ガスおよび水蒸気を触媒層で酸化反応および水蒸気改質反応させて水素を含有する改質ガスを製造するオートサーマルリフォーミング方法において、改質原料、酸素含有ガスおよび水蒸気が供給される触媒層の断面積および長さをそれぞれS(cm2)およびL(cm)とし、該改質原料の炭素と水素の原子比をC/Hとしたとき、C/Hが0.25を超え0.40以下の場合にL/S=2〜30(cm-1)、C/Hが0.40を超え0.42以下の場合にL/S=1〜20(cm-1)、C/Hが0.42を超え0.47以下の場合にL/S=0.5〜15(cm-1)、C/Hが0.47を超え0.58以下の場合にL/S=0.5〜10(cm-1)とすることを特徴とするオートサーマルリフォーミング方法。
IPC (3):
C01B 3/38 ,  C01B 3/32 ,  H01M 8/06
FI (3):
C01B 3/38 ,  C01B 3/32 A ,  H01M 8/06 G
F-Term (10):
4G140EA01 ,  4G140EA02 ,  4G140EA03 ,  4G140EA06 ,  4G140EA07 ,  4G140EB03 ,  4G140EB16 ,  4G140EC08 ,  5H027AA02 ,  5H027BA01
Patent cited by the Patent:
Cited by applicant (4)
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Cited by examiner (4)
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