露光装置及び露光方法、デバイス製造方法

Inventor： , , , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (4)：志賀正武 , 高橋詔男 , 青山正和 , 西和哉
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2004296379
Publication number (International publication number)：2005268747
Application date： Oct. 08, 2004
Publication date： Sep. 29, 2005
Summary：

【課題】液浸露光においてアライメント処理を精確に行うことができる露光装置を提供する。【解決手段】露光装置EXは、基板Pを保持して移動可能な基板ステージPSTと、基板ステージPSTに保持された基板P上のアライメントマーク1を検出するとともに基板ステージPSTに設けられた基準マークPFMを検出する基板アライメント系5と、基板ステージPSTに設けられた基準マークMFMを投影光学系PLを介して検出するマスクアライメント系6とを備え、基板アライメント系5を用いて基板ステージPSTに設けられた基準マークPFMを液体無しに検出するとともに、マスクアライメント系6を用いて基板ステージPSTに設けられた基準マークMFMを投影光学系PLと液体とを介して検出して、基板アライメント系5の検出基準位置とパターンの像の投影位置との位置関係を求める。【選択図】図1

Claim (excerpt)：

投影光学系と液体とを介して基板上にパターンの像を投影することによって、前記基板を露光する露光装置において、前記基板を保持して移動可能な基板ステージと、前記基板ステージに保持された前記基板上のアライメントマークを検出するとともに前記基板ステージに設けられた基準を検出する第1検出系と、前記基板ステージに設けられた基準を前記投影光学系を介して検出する第2検出系とを備え、前記第1検出系を用いて前記基板ステージに設けられた基準を、液体を介さずに検出するとともに、前記第2検出系を用いて前記基板ステージに設けられた基準を前記投影光学系と液体とを介して検出して、前記第1検出系の検出基準位置と前記パターンの像の投影位置との位置関係を求めることを特徴とする露光装置。

IPC (3)：

H01L21/027 , G03F7/20 , G03F9/00

FI (4)：

H01L21/30 515D , G03F7/20 501 , G03F9/00 A , H01L21/30 525R

F-Term (13)：

2H097EA01 , 2H097KA20 , 2H097LA10 , 2H097LA12 , 5F046BA03 , 5F046CB01 , 5F046CB25 , 5F046DB05 , 5F046FB06 , 5F046FB19 , 5F046FC03 , 5F046FC05 , 5F046FC10

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (1)

国際公開第99/49504号パンフレット

Cited by examiner (5)

液浸型露光装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平9-121757 Applicant：株式会社ニコン
露光装置及び露光方法、デバイス製造方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2003-412583 Applicant：株式会社ニコン
露光装置及びその製造方法並びに露光方法及びデバイス製造方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平9-151985 Applicant：株式会社ニコン

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