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J-GLOBAL ID：200903071868038551

ポジ型ホトレジスト組成物

Inventor： 土井 宏介 ,  中緒 卓 ,  沼田 麗美 ,  徳竹 信生 ,  小原 秀克 ,  中山 寿昌
Applicant, Patent owner： 東京応化工業株式会社
Agent (1)： 阿形 明 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1994046432
Publication number (International publication number)：1995234505
Application date： Feb. 21, 1994
Publication date： Sep. 05, 1995
Summary：

【要約】【構成】 アルカリ可溶性樹脂と感光性成分を含有するポジ型ホトレジスト組成物において、この感光性成分が、キノンジアジドスルホン酸と一般式【化1】(式中のk、l及びmは0又は1〜3の整数、nは1又は2である)で表わされる化合物の中から選ばれた少なくとも1種とのエステル化物であって、かつエステル化率が50%以上、ジエステル含有率がモル基準で60%以上のものであるポジ型ホトレジスト組成物である。【効果】 高解像性で、断面形状及び耐熱性に優れたレジストパターンを形成でき、かつ高感度で、しかも焦点深度幅特性及びハレーション防止効果に優れるとともに、十分な露光余裕度を有し、特に凹凸を有する基板や反射率の高い基板に用いて好適であり、特に64M-DRAM以降の超微細パターンの形成に有用。

Claim (excerpt)：

アルカリ可溶性樹脂と感光性成分を含有するポジ型ホトレジスト組成物において、この感光性成分が、キノンジアジドスルホン酸と一般式【化1】(式中のk、l及びmは0又は1〜3の整数、nは1又は2である)で表わされる化合物の中から選ばれた少なくとも1種とのエステル化物であって、かつエステル化率が50%以上であるとともに、ジエステル含有率がモル基準で60%以上であるものであることを特徴とするポジ型ホトレジスト組成物。

IPC (2)：

G03F 7/022 ,  H01L 21/027

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (1)

• ポジ型フオトレジスト組成物
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平5-085856   Applicant：富士写真フイルム株式会社