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J-GLOBAL ID：200903072136432954

化粧料

Inventor： 澤井 俊哉 ,  荒川 健司 ,  畠山 昌和 ,  平木 純
Applicant, Patent owner： チッソ株式会社
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2002228916
Publication number (International publication number)：2004067587
Application date： Aug. 06, 2002
Publication date： Mar. 04, 2004
Summary：

【課題】人体の皮膚表面に生息する微生物の増殖を抑制でき、皮膚刺激性が少なく、人体等に使用しても安全性が高い化粧料を提供する。【解決手段】(A)ε-ポリリジン及び/又はその塩、(B)pH緩衝能を有する電解質、及び(C)アミノ酸からなる抗菌剤組成物を含有する化粧料。【選択図】なし

Claim (excerpt)：

下記成分(A)、(B)、及び(C)からなる抗菌剤組成物を含有することを特徴とする化粧料。 (A)ε-ポリリジン及び/又はその塩。 (B)pH緩衝能を有する電解質。 (C)アミノ酸。

IPC (1)：

A61K7/00

FI (4)：

A61K7/00 A ,  A61K7/00 C ,  A61K7/00 G ,  A61K7/00 Z

F-Term (61)：

4C083AA032 ,  4C083AA082 ,  4C083AA112 ,  4C083AA122 ,  4C083AB152 ,  4C083AB212 ,  4C083AB232 ,  4C083AB242 ,  4C083AB312 ,  4C083AB352 ,  4C083AB442 ,  4C083AC022 ,  4C083AC072 ,  4C083AC102 ,  4C083AC132 ,  4C083AC182 ,  4C083AC242 ,  4C083AC302 ,  4C083AC422 ,  4C083AC432 ,  4C083AC442 ,  4C083AC472 ,  4C083AC532 ,  4C083AC542 ,  4C083AC581 ,  4C083AC582 ,  4C083AC642 ,  4C083AC692 ,  4C083AC712 ,  4C083AC782 ,  4C083AC792 ,  4C083AC812 ,  4C083AC852 ,  4C083AC902 ,  4C083AD022 ,  4C083AD091 ,  4C083AD092 ,  4C083AD112 ,  4C083AD152 ,  4C083AD272 ,  4C083AD322 ,  4C083AD352 ,  4C083AD412 ,  4C083AD442 ,  4C083AD452 ,  4C083AD532 ,  4C083AD642 ,  4C083AD662 ,  4C083CC04 ,  4C083CC05 ,  4C083CC07 ,  4C083CC19 ,  4C083CC25 ,  4C083CC32 ,  4C083CC33 ,  4C083CC37 ,  4C083CC39 ,  4C083DD05 ,  4C083DD23 ,  4C083DD31 ,  4C083DD33

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (3)

• 化粧料
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平11-082149   Applicant：株式会社ナリス化粧品
• 化粧料
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平11-251239   Applicant：株式会社ナリス化粧品
• コンタクトレンズ用液剤
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平10-258614   Applicant：株式会社トーメー