Pat

J-GLOBAL ID：200903072296823143

位置計測方法および装置

Inventor： 村松 彰二 ,  大塚 裕史 ,  小林 芳樹 ,  清水 英志 ,  今井 聡彦
Applicant, Patent owner： 株式会社日立製作所 ,  日立プロセスコンピュータエンジニアリング株式会社
Agent (1)： 高橋 明夫 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1998329261
Publication number (International publication number)：2000155011
Application date： Nov. 19, 1998
Publication date： Jun. 06, 2000
Summary：

【要約】【課題】画像を用いる位置計測で、前処理のフィルタの組合せやマッチング処理の間引き率などのパラメータの最適化を、作業者が介入することなく自動的に決定する。【解決手段】オンライン検査の画像と同種で良品のサンプル画像を取得する手段2、位置計測に使用するテンプレート領域を設定する段3、位置計測を行うためにテンプレートを走査する探索領域を設定する4、及び位置計測を高速かつ安定に行う戦略を自動的に決定する手段5を備えている。位置計測戦略自動決定手段5は人手により設定されたテンプレートと探索領域を用いて、フィルタ処理の種類と順番、及び間引き率のパラメータをサンプル画像に適応して最適化する。パラメータの最適組合せの決定には、遺伝的アルゴリズム(GA)を採用している。

Claim (excerpt)：

対象画像を入力して所定の前処理を行い、前記対象画像の所定位置の特徴を含むテンプレートによる探索処理を行って、前記所定位置を計測する位置計測方法において、予め、前記対象画像のサンプル画像に基づいて設定したテンプレートと探索領域に対し、複数のフィルタ処理の種類と順番からなるパラメータの組み合わせを、画像の特徴が維持または強調されるように選択し、前記対象画像による位置計測に際して、選択されたパラメータの組み合せによって前記前処理を行うことを特徴とする位置計測方法。

IPC (2)：

G01B 11/00 ,  G06T 7/00

FI (2)：

G01B 11/00 H ,  G06F 15/62 400

F-Term (23)：

2F065AA03 ,  2F065BB27 ,  2F065CC01 ,  2F065DD06 ,  2F065FF04 ,  2F065JJ03 ,  2F065JJ19 ,  2F065JJ26 ,  2F065QQ24 ,  2F065QQ31 ,  2F065QQ33 ,  2F065QQ39 ,  2F065QQ41 ,  2F065SS13 ,  2F065TT02 ,  5B057AA03 ,  5B057BA02 ,  5B057BA24 ,  5B057CD07 ,  5B057CE06 ,  5B057DA07 ,  5B057DA16 ,  5B057DC33

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (1)

• 画像処理装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平8-170511   Applicant：三菱電機株式会社