Pat
J-GLOBAL ID：200903072314843726

露光装置

Inventor：
宮島 義一

About 宮島 義一

, 
島 伸一

About 島 伸一


Applicant, Patent owner：
キヤノン株式会社

About キヤノン株式会社


Agent (1)： 伊東 哲也
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2002267670
Publication number (International publication number)：2004104050
Application date： Sep. 13, 2002
Publication date： Apr. 02, 2004
Summary：
【課題】F2露光装置における露光精度の向上及び安定化を図る。【解決手段】受光センサー光路部及びセンサー自身をパージ隔壁で遮蔽し、パージ隔壁の中に不活性ガスを供給することにより、ステージ装置上の各受光センサー部のパージ置換を行う。あるいは、受光センサー光路部に、光透過効率の高い硝材を設けることにより、酸素置換不良による計測光の光量ダウンを防ぐ。【選択図】 図7
Claim (excerpt)：
原版面に描かれたパターンを投影光学系を介して基板に投影し、該投影光学系に対し前記原版と基板の両方もしくは基板のみをステージ装置により相対的に移動させることにより、該原版のパターンを該基板に繰り返し露光する露光装置において、 前記ステージ装置上に搭載された受光センサーの周囲及び入射光路部を略遮蔽空間とするパージ隔壁と、該パージ隔壁内に気体を供給する気体供給手段とを設けたことを特徴とする露光装置。
IPC (4)：
H01L21/027 ,  G03F7/20 ,  G03F9/00 ,  G08C25/00
FI (4)：
H01L21/30 516F ,  G03F7/20 521 ,  G03F9/00 H ,  G08C25/00 F
F-Term (19)：
2F073AA11 ,  2F073BB04 ,  2F073BC01 ,  2F073CC14 ,  2F073EE01 ,  2F073GG01 ,  2F073GG04 ,  2F073GG06 ,  2F073GG08 ,  2F073GG09 ,  5F046BA04 ,  5F046BA05 ,  5F046CA03 ,  5F046CC01 ,  5F046CC02 ,  5F046DA27 ,  5F046DB05 ,  5F046DC12 ,  5F046GA03
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (6)
Show all

Return to Previous Page

TOP

BOTTOM