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J-GLOBAL ID:200903072391332548
レーザ光の合成方法
Inventor:
,
Applicant, Patent owner:
Agent (1):
安富 耕二 (外1名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1996259660
Publication number (International publication number):1998099987
Application date: Sep. 30, 1996
Publication date: Apr. 21, 1998
Summary:
【要約】【課題】エネルギー密度分布が略均一で長尺のレーザ光を得る方法を提供する。【解決手段】 第1及び第2ライン状レーザ光LB1及びLB2は、互いにへいこうな平面上の同一方向に照射され、そしてそれらの光路上に設けられた反射鏡M1及びM2により、同一平面上の同一方向に、互いに長尺方向の一部を重複して反射される。そして、第1ライン状レーザ光LB1における、第2ライン状レーザ光LB2と重複する部分は、第2ライン状レーザ光LB2の光路上に設けられた反射鏡M2により遮光される。この結果第1ライン状レーザ光LB1と第2ライン状レーザ光LB2とが切れ目なく連結され、エネルギー密度分布の略均一な長尺のレーザ光が得られる。
Claim (excerpt):
複数のライン状レーザ光を、同一平面上の同一方向に照射すると共に、その長尺方向に互いに切れ目無く且つ重複することなく連結することで、前記ライン状レーザ光よりも長尺で且つエネルギー密度分布の均一なレーザ光とすることを特徴とするレーザ光の合成方法。
IPC (2):
FI (2):
B23K 26/06 E
, H01S 3/10 Z
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (2)
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特開昭61-193797
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被膜加工装置および被膜加工方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平5-112355
Applicant:株式会社半導体エネルギー研究所
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