X線発生用ターゲット及びこれを用いたX線管

Inventor：
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：長谷川芳樹 (外3名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1998253817
Publication number (International publication number)：2000082430
Application date： Sep. 08, 1998
Publication date： Mar. 21, 2000
Summary：

【要約】【課題】微小焦点径のX線を発しつつ、耐衝撃性の低下を防止し、冷却効果を向上させることのできるX線発生用ターゲット及びこれを用いたX線管を提供することを目的とする。【解決手段】本発明は、銅製ターゲット支持体16に設けられ、カソード15bから放射される電子ビームを受容してX線を発するターゲット17であって、支持体16に設けられ、銅より大きい熱伝導率の炭素層19、炭素層19上のレニウム層20、電子ビームを受容してX線を発するレニウム層20上のタングステン薄膜21を備える。この場合、薄膜21で電子ビームがX線に変換され、焦点径の小さいX線がターゲット17から放射される。また、電子ビームが炭素層19で吸収されて発生する熱が支持体16に速やかに伝えられる。更に、レニウム層20によりタングステンカーバイドの生成が防止される。

Claim (excerpt)：

銅からなるターゲット支持体に設けられ、カソードから放射される電子ビームを受容してX線を発するX線発生用ターゲットであって、前記ターゲット支持体に設けられ、銅より大きい熱伝導率を有する炭素質材料からなる炭素層と、前記炭素層上に設けられるレニウム層と、前記レニウム層上に設けられ、前記電子ビームを受容して前記X線を発するタングステン薄膜と、を備えることを特徴とするX線発生用ターゲット。

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (8)

X線発生用タ-ゲットとX線源とX線撮像装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平4-336468 Applicant：株式会社日立製作所
特開平4-144045
特開平4-154033

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