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J-GLOBAL ID:200903072472802590

開環メタセシス重合体の水素添加物、その用途及びその製造方法

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 金田 暢之 (外2名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1999183991
Publication number (International publication number):2000109545
Application date: Jun. 29, 1999
Publication date: Apr. 18, 2000
Summary:
【要約】【課題】 優れたレジスト材ポリマーとして用いるのに必要な諸性能全てを満足し、しかも狭い分子量分布を有する開環メタセシス重合体の水素添加物を提供する。【解決手段】 少なくとも一般式(1)で表される構造単位(A)と一般式(2)で表される構造単位(B)と一般式(3)で表される構造単位(C)から構成され、その構成モル比(A)/(B)が1/99〜99/1および構成モル比(B)/(C)が30/70〜100/0であり、かつMwとMnとの比が1.0〜2.0である開環メタセシス重合体の水素添加物。【化1】(式中、R1〜R4の少なくとも一つが、酸分解基を含む置換基、R6〜R9の少なくとも一つが、カルボキシ、ヒドロキシを含む置換基、R11〜R14の少なくとも1つがシアノまたはラクトニルオキシカルボニルを含む置換基である。)
Claim (excerpt):
少なくとも下記一般式(1)【化1】(式中、R1〜R4のうち少なくとも一つが、酸により分解する基を含む置換基であり、その他は水素、炭素数1〜20のアルキル基、ハロゲン、炭素数1〜20のハロゲン化アルキル基、炭素数1〜20のアルコキシ基、炭素数2〜20のアルコキシアルキル基、炭素数2〜20のアルキルカルボニルオキシ基、炭素数7〜20のアリールカルボニルオキシ基、炭素数1〜20のアルキルスルホニルオキシ基、炭素数6〜20のアリールスルホニルオキシ基、カルボキシ基、ヒドロキシ基、炭素数2〜20のカルボキシアルキル基、または炭素数1〜20のヒドロキシアルキル基から選ばれ、X1は-O-、-S-、-NR5-、-PR5-、または-CR52-から(R5は水素、炭素数1〜20のアルキル基を表す)選ばれ、同一でも異なってもよい。mは0または1〜3の整数を表す。)で表される構造単位(A)と下記一般式(2)【化2】(式中、R6〜R9のうち少なくとも一つが、カルボキシ、ヒドロキシを含む置換基であり、その他は水素、炭素数1〜20のアルコキシ基、炭素数2〜20のアルコキシアルキル基、炭素数1〜20のアルキル基、ハロゲン、炭素数1〜20のハロゲン化アルキル基、炭素数2〜20のアルキルカルボニルオキシ基、炭素数7〜20のアリールカルボニルオキシ基、炭素数1〜20のアルキルスルホニルオキシ基、または炭素数6〜20のアリールスルホニルオキシ基から選ばれ、X2は-O-、-S-、-NR10-、-PR10-、または-CR102-から(R10は水素、炭素数1〜20のアルキル基を表す)選ばれ、同一でも異なってもよい。nは0または1〜3の整数を表す。)で表される構造単位(B)と下記一般式(3)【化3】(式中、R11〜R14の少なくとも1つがシアノまたはラクトニルオキシカルボニルを含む置換基であり、その他は水素、カルボキシ基、ヒドロキシ基、炭素数2〜20のカルボキシアルキル基、または炭素数1〜20のヒドロキシアルキル基、炭素数2〜20のアルコキシカルボニル基、炭素数3〜20のアルコキシカルボニルアルキル基、炭素数1〜20のアルコキシ基、炭素数2〜20のアルコキシアルキル基、炭素数1〜20のアルキル基、ハロゲン、または炭素数1〜20のハロゲン化アルキル基から選ばれ、X3は-O-、-S-、-NR15-、-PR15-、または-CR152-から(R15は水素、炭素数1〜20のアルキル基を表す)選ばれ、同一でも異なってもよい。lは0または1〜3の整数を表す。)で表される構造単位(C)から構成され、その構成モル比(A)/(B)が1/99〜99/1および構成モル比(B)/(C)が30/70〜100/0であり、かつ重量平均分子量Mwと数平均分子量Mnとの比(Mw/Mn)が1.0〜2.0であることを特徴とする開環メタセシス重合体の水素添加物。
IPC (3):
C08G 61/08 ,  G03F 7/039 601 ,  H01L 21/027
FI (3):
C08G 61/08 ,  G03F 7/039 601 ,  H01L 21/30 502 R
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (2)

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