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J-GLOBAL ID：200903087203556296

酸不安定ペンダント基を持つ多環式ポリマーからなるフォトレジスト組成物

Inventor： グッダル、ブライアン・エル ,  ジャヤラマン、サイクマル ,  シック、ロバート・エイ ,  ローデス、ラリー・エフ
Applicant, Patent owner： ザ ビー.エフ.グッドリッチ カンパニー
Agent (1)： 大島 正孝
Gazette classification：公表公報
Application number (International application number)：1997532033
Publication number (International publication number)：2000508080
Application date： Mar. 06, 1997
Publication date： Jun. 27, 2000
Summary：

【要約】本発明は光酸開始剤およびペンダント酸不安定基を含有する繰返し単位を含有してなる多環式ポリマーを含有する感放射線性フォトレジスト組成物に関する。像形成放射線源に曝露することによって、光酸開始剤はポリマーの極性変化に影響するペンダント酸不安定基を開裂する酸を発生する。ポリマーは像形成源に暴露された領域で水性塩基に可溶性となる。

Claim (excerpt)：

光酸開始剤、任意の溶解抑制剤、および少なくともその1部がペンダント酸不安定基を含有する多環式繰返し単位を持つポリマーを含有してなるフォトレジスト組成物。

IPC (6)：

G03F 7/039 601 ,  C08L 45/00 ,  C08L 65/00 ,  H01L 21/027 ,  C08F 32/00 ,  C08G 61/08

FI (6)：

G03F 7/039 601 ,  C08L 45/00 ,  C08L 65/00 ,  C08F 32/00 ,  C08G 61/08 ,  H01L 21/30 502 R

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (3)

• ポジ型放射線レジストとレジストパターンの形成方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平4-099967   Applicant：富士通株式会社
• レジスト組成物およびその利用
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平8-063775   Applicant：日本ゼオン株式会社
• 感放射線性樹脂組成物
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平8-352621   Applicant：ジェイエスアール株式会社

Cited by examiner (3)

• ポジ型放射線レジストとレジストパターンの形成方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平4-099967   Applicant：富士通株式会社
• レジスト組成物およびその利用
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平8-063775   Applicant：日本ゼオン株式会社
• 感放射線性樹脂組成物
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平8-352621   Applicant：ジェイエスアール株式会社