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J-GLOBAL ID:200903072751677401
素子試験装置及び素子試験方法
Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1):
服部 毅巖
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2007303498
Publication number (International publication number):2009128188
Application date: Nov. 22, 2007
Publication date: Jun. 11, 2009
Summary:
【課題】半導体装置の高生産または低コスト化を実現させる。【解決手段】素子試験装置1は、支持台11と、支持台11上に載置され、半導体素子20のコレクタ電極に接触する金属箔21cと、半導体素子20のエミッタ電極上に配置させた金属箔21eと、金属箔21eに接触させる、少なくとも一つの接触子と、半導体素子20のゲート電極に導通させる、少なくとも一つの接触子と、を有する。このような素子試験装置1を用いれば、半導体素子20が破損しても、微小な破壊片等が金属箔21cまたは金属箔21eに付着する、これにより、半導体装置の高生産または低コスト化が実現する。【選択図】図1
Claim (excerpt):
半導体素子の電気的特性を評価する素子試験装置において、
支持台と、
前記支持台上に載置され、前記半導体素子の第1の主電極に接触する第1の金属箔と、
前記半導体素子の第2の主電極上に配置する第2の金属箔と、
前記第2の主電極上に配置した前記第2の金属箔に接触する、少なくとも一つの第1の接触子と、
前記半導体素子の制御用電極に接触する、少なくとも一つの第2の接触子と、
を有することを特徴とする素子試験装置。
IPC (1):
FI (1):
F-Term (11):
2G003AA01
, 2G003AB01
, 2G003AB09
, 2G003AE09
, 2G003AG03
, 2G003AG08
, 2G003AG12
, 2G003AG20
, 2G003AH05
, 2G003AH07
, 2G003AH08
Patent cited by the Patent:
Cited by applicant (1)
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半導体素子の試験装置および試験方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2005-164016
Applicant:富士電機デバイステクノロジー株式会社
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