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J-GLOBAL ID：200903072759761193

シリカ及びその製造方法

Inventor： 森 寛 ,  加藤 波奈子 ,  吉森 孝幸 ,  山口 隆
Applicant, Patent owner： 三菱化学株式会社
Agent (1)： 真田 有
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2003188305
Publication number (International publication number)：2005022895
Application date： Jun. 30, 2003
Publication date： Jan. 27, 2005
Summary：

【課題】最頻細孔直径が大きく、制御された細孔特性を有し、且つ耐熱性や耐水性等にも優れたシリカを提供する。【解決手段】以下の特性を備えるようにする。(a)細孔容積が0.6ml/g以上、1.6ml/g以下(b)比表面積が50〜600m2/g(c)最頻細孔直径(Dmax)が15nm以上(d)固体Si-NMRでのQ4/Q3値が3以上(e)非結晶質であること【選択図】 なし

Claim (excerpt)：

以下の特性を備えたことを特徴とする、シリカ。 (a)細孔容積が0.6ml/g以上、1.6ml/g以下 (b)比表面積が50〜600m2/g (c)最頻細孔直径(Dmax)が15nm以上 (d)固体Si-NMRでのQ4/Q3値が3以上 (e)非結晶質であること

IPC (2)：

C01B33/12 ,  C01B33/157

FI (2)：

C01B33/12 Z ,  C01B33/157

F-Term (21)：

4G072AA25 ,  4G072AA28 ,  4G072BB05 ,  4G072BB13 ,  4G072BB15 ,  4G072CC10 ,  4G072HH30 ,  4G072JJ11 ,  4G072LL06 ,  4G072LL11 ,  4G072LL17 ,  4G072MM01 ,  4G072PP05 ,  4G072RR05 ,  4G072RR12 ,  4G072RR19 ,  4G072TT05 ,  4G072TT08 ,  4G072TT09 ,  4G072TT19 ,  4G072TT30

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (3)

• シリカゲル
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2001-358568   Applicant：三菱化学株式会社
• シリカゲルの製造方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2001-198224   Applicant：三菱化学株式会社
• 表面処理したシリカゲルの製造方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平7-183153   Applicant：日本シリカ工業株式会社