表面処理したシリカゲルの製造方法

Inventor：
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：塩澤寿夫 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1995183153
Publication number (International publication number)：1997030810
Application date： Jul. 20, 1995
Publication date： Feb. 04, 1997
Summary：

【要約】【課題】シリカゲルの本来有するBET比表面積や細孔容積をほぼ維持し、所望の粒子径を有し、所望量の処理剤で均一な表面処理を施した表面処理シリカゲルを製造する方法の提供。【解決手段】過熱蒸気を用いたジェットミルにシリカゲルと表面処理剤とを供給して、シリカゲルの粉砕と表面処理とを並行して行なうことにより表面処理したシリカゲルを製造する方法であって、前記表面処理剤が表面処理成分を水性溶媒に溶解または分散した溶液であることを特徴とする表面処理シリカゲルの製造方法。

Claim (excerpt)：

過熱蒸気を用いたジェットミルにシリカゲルと表面処理剤とを供給して、シリカゲルの粉砕と表面処理とを並行して行なうことにより表面処理したシリカゲルを製造する方法であって、前記表面処理剤が表面処理成分を水性溶媒に溶解または分散した溶液であることを特徴とする表面処理シリカゲルの製造方法。

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (8)

特開平4-037603
微細沈殿ケイ酸及びその製造法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平4-334661 Applicant：日本シリカ工業株式会社
高比表面積を有する微細沈殿ケイ酸及びその製造法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平3-213630 Applicant：日本シリカ工業株式会社

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