Pat
J-GLOBAL ID：200903072838912253
有機EL素子の製造方法、有機EL素子、および電子機器
Inventor：
Applicant, Patent owner：
Agent (3)：
上柳 雅誉
, 藤綱 英吉
, 須澤 修
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2004117874
Publication number (International publication number)：2005302567
Application date： Apr. 13, 2004
Publication date： Oct. 27, 2005
Summary：
【課題】有機材料と有機溶媒の溶解性を考慮することなく、簡単な湿式の製造プロセスで、有機EL素子の積層構造を構築することが可能な有機EL素子の製造方法を提供することを目的とする。【解決手段】第1の電極と、第2の電極と、前記第1の電極と前記第2の電極に狭持された有機層を有する有機EL素子の製造方法において、第1の有機材料の液状体を基材に配して第1の有機層を形成する第1の有機層形成工程と、前記第1の有機層の表面を熱源により加熱してその表面を改質し、有機溶媒に対して不溶化させる表面改質工程と、前記表面が改質された前記第1の有機層上に、第2の有機材料を有機溶媒に溶解させた液状体を配して、第2の有機層を形成する第2の有機層形成工程と、を含むものである。【選択図】 図1
Claim (excerpt)：
第1の電極と、第2の電極と、前記第1の電極と前記第2の電極に狭持された有機層を有する有機EL素子の製造方法において、
第1の有機材料の液状体を基材に配して第1の有機層を形成する第1の有機層形成工程と、
前記第1の有機層の表面を熱源により加熱してその表面を改質し、有機溶媒に対して不溶化させる表面改質工程と、
前記表面が改質された前記第1の有機層上に、第2の有機材料を有機溶媒に溶解させた液状体を配して、第2の有機層を形成する第2の有機層形成工程と、
を含むことを特徴とする有機EL素子の製造方法。
IPC (3)：
H05B33/10
, H05B33/14
, H05B33/22
H05B33/10
, H05B33/14 A
, H05B33/22 B
, H05B33/22 D
3K007AB18
, 3K007DB03
, 3K007FA01
, 3K007FA03
