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J-GLOBAL ID:200903073029269184
光記録媒体用成形材料
Inventor:
,
Applicant, Patent owner:
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1995174974
Publication number (International publication number):1997025339
Application date: Jul. 11, 1995
Publication date: Jan. 28, 1997
Summary:
【要約】【目的】 耐熱性および低複屈折性に優れた光記録媒体用成形材料を提供することを目的とする。【構成】 置換されたシクロヘキサン構造を有する下記一般式(A)おろび下記一般式(B)で表される構造単位を有し、一般式(A)であ表される構造単位が全構成単位中5〜40mol%であり、かつ極限粘度〔η〕が0.30〜0.50dl/gであるポリカーボネート共重合体からなる光記録媒体用成形材料。【化1】【化2】
Claim (excerpt):
置換されたシクロヘキサン構造を有する下記一般式(A)および下記一般式(B)で表される構造単位を有し、一般式(A)の構造単位が全構成単位中5〜40mol %であり、かつ極限粘度が0.30〜0.50dl/gであるポリカーボネートからなる光記録媒体用成形材料。【化1】(式中、R1 〜R7 は水素原子、ハロゲン原子、炭素数1〜5のアルキル基、炭素数6〜12のアリール基、炭素数2〜5のアルケニル基、炭素数1〜5のアルコキシ基、または炭素数7〜17のアラルキル基であり、これらの基の炭素は炭素数1〜5のアルキル基もしくはアルケニル基、炭素数1〜5のアルコキシ基、ハロゲン原子、またはポリジメチルシロキシ基で置換されていてもよい。)【化2】(式中、R8 〜R11はそれぞれ、水素、ハロゲン原子、炭素数1〜5のアルキル基、炭素数6〜12のアリール基、炭素数2〜5のアルケニル基、炭素数1〜5のアルコキシ基、または炭素数7〜17のアラルキル基であり、これらの基の炭素は炭素数1〜5のアルキル基もしくはアルケニル基、炭素数1〜5のアルコキシ基、ハロゲン原子、またはポリジメチルシロキシ基で置換されていてもよい。Xは、下記の基を示す。【化3】ここにR12、R13はそれぞれ、水素、炭素数1〜5のアルキル基、アルコキシ基又は炭素数6〜12アリール基を表すか、R12及びR13が結合して、炭素環または複素環を形成する基を表し、これらの基の炭素は炭素数1〜5のアルキル基またはアルケニル基、炭素数1〜5のアルコキシ基、ハロゲン原子で置換されていてもよい。aは0〜20の整数、b およびc は1〜100の整数を表す。)
IPC (2):
C08G 64/04 NPT
, G11B 7/24 516
FI (2):
C08G 64/04 NPT
, G11B 7/24 516
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (2)
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特開昭63-089536
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光ディスク基板の製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平7-135053
Applicant:帝人化成株式会社
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