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J-GLOBAL ID：200903073338497248

メンテナンスシステム、メンテナンス方法、露光装置、デバイスの製造方法

Inventor： 山口 敦史
Applicant, Patent owner： 株式会社ニコン
Agent (4)： 志賀 正武 ,  高橋 詔男 ,  青山 正和 ,  西 和哉
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2005309832
Publication number (International publication number)：2007123335
Application date： Oct. 25, 2005
Publication date： May. 17, 2007
Summary：

【課題】基板の支持面に対して清掃等のメンテナンス処理を円滑に行えるメンテナンス装置を提供する。 【解決手段】メンテナンスシステムは、物体を支持する支持面のメンテナンス処理を行う処理部72,95と、処理部72,95の作動に必要な電力を供給する電力受給部80とを有し、支持面に対して着脱可能なメンテナンス装置CLと、電力受給部80に非接触で電力を供給する電力供給部と、を備える。 【選択図】図3

Claim (excerpt)：

物体を支持する支持面のメンテナンス処理を行う処理部と、前記処理部の作動に必要な電力を供給する電力受給部とを有し、前記支持面に対して着脱可能なメンテナンス装置と、 前記電力受給部に非接触で電力を供給する電力供給部と、 を備えることを特徴とするメンテナンスシステム。

IPC (3)：

H01L 21/304 ,  H01L 21/027 ,  H01L 21/67

FI (4)：

H01L21/304 622G ,  H01L21/30 502Z ,  H01L21/30 503G ,  H01L21/68 Z

F-Term (18)：

5F031CA02 ,  5F031FA01 ,  5F031FA05 ,  5F031FA07 ,  5F031FA12 ,  5F031GA02 ,  5F031GA35 ,  5F031GA36 ,  5F031GA43 ,  5F031HA13 ,  5F031HA33 ,  5F031JA01 ,  5F031MA23 ,  5F031MA27 ,  5F031PA24 ,  5F046AA17 ,  5F046AA28 ,  5F046DA30

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (1)

• 露光装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平4-230069   Applicant：株式会社ニコン