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J-GLOBAL ID:200903073432753045
ガス分解処理方法及びその装置
Inventor:
,
Applicant, Patent owner:
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1997323235
Publication number (International publication number):1999156145
Application date: Nov. 25, 1997
Publication date: Jun. 15, 1999
Summary:
【要約】【課題】 低電力で安定した放電を維持することにより分解効率が改善されたガス分解処理方法及びその装置を提供する。【解決手段】 ハニカム構造を有する外部電極と、該ハニカム構造のセル中央に位置する内部電極間に電界を印加することにより、該ハニカム構造のセル内を流通している気体をプラズマ励起させてガス分解処理を行う方法であって、外部電極及び/又は内部電極の電極対向面に固体誘電体が配設されてなることを特徴とするガス分解処理方法。
Claim (excerpt):
ハニカム構造を有する外部電極と、該ハニカム構造のセル中央に位置する内部電極間に電界を印加することにより、該ハニカム構造のセル内を流通している気体をプラズマ励起させてガス分解処理を行う方法であって、外部電極及び/又は内部電極の電極対向面に固体誘電体が配設されてなることを特徴とするガス分解処理方法。
IPC (5):
B01D 53/32
, B01D 53/44
, B01D 53/50
, B01D 53/56
, B01D 53/74
FI (4):
B01D 53/32
, B01D 53/34 117 Z
, B01D 53/34 122 Z
, B01D 53/34 129 C
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (3)
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プラズマ法排ガス浄化装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平6-063460
Applicant:日立造船株式会社
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特開平3-275119
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排ガス処理方法および排ガス処理装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平4-041286
Applicant:三井造船株式会社
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