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J-GLOBAL ID:200903073514771696
光触媒ユニット
Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1):
石川 泰男
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2001114496
Publication number (International publication number):2002307057
Application date: Apr. 12, 2001
Publication date: Oct. 22, 2002
Summary:
【要約】【課題】 小型であっても水に光触媒の接触する時間と回転が増大する光触媒ユニットを提供する。【解決手段】 ケーシング3内に設けた軸8上に所定間隔で回転羽根11,12を回転自在に設け、この回転羽根11,12の表面上に光触媒層lを溶射又は塗装によって形成し、これにより水流によって回転羽根11,12が回転しながら水と光触媒とが接触する。
Claim (excerpt):
水処理層内に設けられて水の殺菌、浄化処理等の水処理を行うための光触媒ユニットであって、この光触媒ユニットはケーシングと、このケーシング内に回転自在に設けられた回転体からなりこの回転体の表面には光触媒が付着されていることを特徴とする光触媒ユニット。
IPC (4):
C02F 1/32
, B01J 35/02
, C02F 1/72 101
, C02F 1/72 ZAB
FI (4):
C02F 1/32
, B01J 35/02 J
, C02F 1/72 101
, C02F 1/72 ZAB
F-Term (16):
4D037AA08
, 4D037AB03
, 4D037BA18
, 4D037CA11
, 4D050AA08
, 4D050AB06
, 4D050BC04
, 4D050BC09
, 4D050BD06
, 4G069AA03
, 4G069AA08
, 4G069BA48A
, 4G069CA05
, 4G069DA05
, 4G069EA08
, 4G069FA03
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (4)
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光触媒使用有害物質分解装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平11-293559
Applicant:青柳晃
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光触媒反応装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平10-150604
Applicant:扶桑建設工業株式会社
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水処理設備及び水の浄化方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平10-148028
Applicant:石川島播磨重工業株式会社
-
光触媒水処理装置及び光触媒水処理方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平9-025885
Applicant:住友重機械工業株式会社
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