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J-GLOBAL ID：200903036641679330

光触媒水処理装置及び光触媒水処理方法

Inventor：
山村 健治

About 山村 健治


Applicant, Patent owner：
住友重機械工業株式会社

About 住友重機械工業株式会社


Agent (1)： 光来出 良彦
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1997025885
Publication number (International publication number)：1998202257
Application date： Jan. 24, 1997
Publication date： Aug. 04, 1998
Summary：
【要約】【課題】 水中の被処理有機物を光触媒反応により分解するのに、光触媒反応の最大の問題点である、固体表面反応に由来する反応効率の低さを解決し、効率よく浄化することができる光触媒水処理装置、及びその光触媒水処理装置を使用した有機物を分解する方法を提供する。【解決手段】 被処理有機物の吸着能を有する吸着材と、光触媒とを接するように担持させた円板状支持体5を用意し、水中において該円板状支持体5表面の吸着材に水中の被処理有機物を吸着させることにより該円板状支持体5表面に被処理有機物を濃縮した後、該円板状支持体5を水中から引き上げて円板状支持体5表面に紫外光を照射することにより水酸ラジカルを生成させ、該水酸ラジカルが吸着されている有機物の酸化分解に有効に使われるようにし、このような被処理有機物の吸着、光触媒反応物による分解処理を連続的に行えるようにした。
Claim (excerpt)：
被処理有機物を吸着することができる吸着材と光触媒とを接した状態で担持した支持体を有し、該支持体は、水中への浸漬と水面上への引上げが連続的にできるように配置され、水面上に引上げられた支持体に対して紫外光を照射することができる光源が配置されていることを特徴とする光触媒水処理装置。
IPC (3)：
C02F 1/32 ZAB ,  B01J 35/02 ,  C02F 1/28
FI (4)：
C02F 1/32 ZAB ,  B01J 35/02 J ,  C02F 1/28 F ,  C02F 1/28 A
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (2)
  • 液体浄化方法及び装置
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願平4-130059   Applicant：株式会社新素材総合研究所
  • 水処理装置
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願平7-054975   Applicant：盛和工業株式会社, 三菱製紙株式会社

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