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J-GLOBAL ID：200903073686194461

有機ELディスプレイおよびその製造方法

Inventor：
阿部 真一

About 阿部 真一

, 
浅野 元彦

About 浅野 元彦

, 
小川 浩充

About 小川 浩充


Applicant, Patent owner：
京セラ株式会社

About 京セラ株式会社


Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2006291550
Publication number (International publication number)：2008108628
Application date： Oct. 26, 2006
Publication date： May. 08, 2008
Summary：
【課題】本発明は、有機EL素子の劣化を効果的に抑制することにより、信頼性の優れた有機ELディスプレイおよびその製造方法を提供することを目的とする。 【解決手段】素子基板1と、素子基板1上に形成され、発光層を有する有機層13と、有機層13の両側に配置される一対の電極層12、14とを有する有機EL素子2と、有機EL素子2上に形成され、有機EL素子2の有機層13を構成する有機材料よりもガラス転移点が低い有機材料から成るキャッピング層3と、キャッピング層3上に形成された保護層4と、を備えたことを特徴とする有機ELディスプレイ。【選択図】図2
Claim (excerpt)：
発光層を有する有機層と、該有機層の両側に配置される一対の電極層とを有する有機EL素子を準備する工程と、 前記有機EL素子上に、前記有機層を構成する有機材料よりもガラス転移点が低い有機材料から成る有機材料層を被着させる工程と、 前記有機材料層を、前記有機材料層のガラス転移点より高い温度であって、前記有機層を構成する材料のガラス転移点よりも低い温度で加熱して、前記有機材料層を融解させ、該有機材料層を部分的に流動させる工程と、 前記有機材料層を、その構成材料のガラス転移点よりも低い温度に冷却して、流動させた前記有機材料層を固化してキャッピング層を形成する工程と、 前記キャッピング層上に保護層を形成する工程と、 を含むことを特徴とする有機ELディスプレイの製造方法。
IPC (5)：
H05B 33/10 ,  H05B 33/04 ,  H01L 51/50 ,  H05B 33/12 ,  H05B 33/22
FI (5)：
H05B33/10 ,  H05B33/04 ,  H05B33/14 A ,  H05B33/12 B ,  H05B33/22 Z
F-Term (13)：
3K107AA01 ,  3K107BB01 ,  3K107CC23 ,  3K107DD89 ,  3K107DD90 ,  3K107EE42 ,  3K107EE46 ,  3K107EE50 ,  3K107FF05 ,  3K107FF06 ,  3K107GG04 ,  3K107GG26 ,  3K107GG28
Patent cited by the Patent：
Cited by applicant (4)
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