パターン形成用モールドの製造方法およびパターン形成用モールド

Inventor： , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (2)：籾井孝文 , 山元美佐
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2006039319
Publication number (International publication number)：2007216501
Application date： Feb. 16, 2006
Publication date： Aug. 30, 2007
Summary：

【課題】基板と所望のパターンを有する凸部との密着性が良く耐久性に優れ、正確にパターン形成可能なパターン形成用モールドの製造方法およびパターン形成用モールドを提供すること。【解決手段】本発明のパターン形成用モールドの製造方法は、基板表面に、無機微粒子とヒドロキシスチレン系樹脂と光酸発生剤とを含むレジスト組成物で所望のパターンを有する凸部を形成する工程と、凸部を形成した基板表面に、ポリシラザンを含有する塗布液を塗布してハードコート層を形成する工程と、ハードコート層を形成した基板を焼成する工程とを含む。前記ヒドロキシスチレン系樹脂の配合量は、前記無機微粒子100重量部に対して5〜25重量部である。【選択図】なし

Claim (excerpt)：

基板表面に、無機微粒子とヒドロキシスチレン系樹脂と光酸発生剤とを含むレジスト組成物で所望のパターンを有する凸部を形成する工程と、凸部を形成した基板表面に、ポリシラザンを含有する塗布液を塗布してハードコート層を形成する工程と、ハードコート層を形成した基板を焼成する工程とを含み、該ヒドロキシスチレン系樹脂の配合量は、該無機微粒子100重量部に対して5〜25重量部である、パターン形成用モールドの製造方法。

IPC (5)：

B29C 33/38 , G03F 7/40 , H01L 21/027 , G03F 7/039 , G03F 7/004

FI (6)：

B29C33/38 , G03F7/40 , H01L21/30 502D , G03F7/039 601 , G03F7/004 501 , G03F7/004 511

F-Term (26)：

2H025AA14 , 2H025AB16 , 2H025AC01 , 2H025AD03 , 2H025BE00 , 2H025BG00 , 2H025CC08 , 2H025FA29 , 2H025FA39 , 2H096AA25 , 2H096BA11 , 2H096BA20 , 2H096EA02 , 2H096HA01 , 2H096HA30 , 2H096JA04 , 4F202AA44 , 4F202AJ07 , 4F202AJ09 , 4F202CA01 , 4F202CA07 , 4F202CB01 , 4F202CB29 , 4F202CD23 , 4F202CD30 , 5F046AA28

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (1)

セラミック微細パターン形成用モールド膜とその製造方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平9-208564 Applicant：ファインセラミックス技術研究組合

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