セラミック微細パターン形成用モールド膜とその製造方法

Inventor： , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：石田康昌
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1997208564
Publication number (International publication number)：1999040548
Application date： Jul. 17, 1997
Publication date： Feb. 12, 1999
Summary：

【要約】【課題】セラミック前駆体のゾルが微細パターンの空隙部にのみ充填されるように改良されたセラミック微細パターン形成用モールド膜を提供する。【解決手段】基板1の上に形成されたレジスト樹脂パターン2の微細パターン空隙部に撥水・撥油性有機高分子樹脂3を充填後、レジスト樹脂を除去しその空隙部にのみセラミック前駆体4を充填可能にしたセラミック微細パターン形成用モールド膜を得る。

Claim (excerpt)：

基板上に撥水・撥油性有機高分子樹脂パターン膜が形成され、パターン膜の空隙部の露出した基板表面上にセラミック前駆体を充填できるようにしたことを特徴とするセラミック微細パターン形成用モールド膜またはこれより得られるセラミック微細パターン。

IPC (5)：

H01L 21/3065 , B05D 1/32 , C08L 27/12 , C08L 29/10 , H01B 3/00

FI (5)：

H01L 21/302 J , B05D 1/32 Z , C08L 27/12 , C08L 29/10 , H01B 3/00 F

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (7)

セラミックパターン形成法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平6-117699 Applicant：日本合成化学工業株式会社
特開平4-223392
特開平4-223392

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