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J-GLOBAL ID：200903073872152299

位置決め装置

Inventor： 片山 和喜 ,  今沢 民雄 ,  高橋 良典 ,  吉岡 宏和
Applicant, Patent owner： 株式会社竹中工務店
Agent (1)： 杉谷 勉
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993160432
Publication number (International publication number)：1994347221
Application date： Jun. 03, 1993
Publication date： Dec. 20, 1994
Summary：

【要約】【目的】 距離の離れたビーム照射装置と目標物との相対位置を高精度に維持できるようにする。【構成】 目標物1を第1の除振装置5を介して設置支持し、その目標物1に粒子を照射するビーム照射装置6を第2の位置制御装置8を介して第2の除振台9に支持するとともに、その除振台9を第2の除振装置10を介して設置支持し、目標物1とビーム照射装置6との相対位置を検出する相対位置検出装置24を設けるとともに、その相対位置検出装置24によって検出される目標物1とビーム照射装置6との相対位置を設定範囲内に維持するように第2の位置制御装置8を制御する。

Claim (excerpt)：

目標物を第1の除振装置を介して設置支持し、その目標物に粒子を照射するビーム照射装置を位置制御装置を介して除振台に支持するとともに、その除振台を第2の除振装置を介して設置支持し、前記目標物と前記ビーム照射装置との相対位置を検出する相対位置検出装置を設けるとともに、その相対位置検出装置によって検出される前記目標物と前記ビーム照射装置との相対位置を設定範囲内に維持するように前記位置制御装置を制御する位置決め制御手段を備えたことを特徴とする位置決め装置。

IPC (5)：

G01B 11/00 ,  F16F 15/02 ,  G01B 21/00 ,  G05D 3/12 ,  G12B 9/08

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (3)

• 特開昭63-198326
  
• 除振制御装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平5-003982   Applicant：清水建設株式会社
• 特開平1-189504