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J-GLOBAL ID：200903073876256129

パターン欠陥検査装置及びパターン欠陥検査方法

Inventor：
依田 晴夫

About 依田 晴夫

, 
野副 真理

About 野副 真理


Applicant, Patent owner：
株式会社日立製作所

About 株式会社日立製作所


Agent (1)： 小川 勝男
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1998188558
Publication number (International publication number)：1999087446
Application date： Jul. 03, 1998
Publication date： Mar. 30, 1999
Summary：
【要約】 (修正有)【課題】半導体回路パターン形成工程において、レビュー装置による目視再検査を省略して、検出したパターン欠陥の詳細な解析を迅速化する。【解決手段】高速のパターン欠陥検査装置に、欠陥の検出に同期して欠陥の画像的特徴量を計算する手段と、計算された特徴量によって欠陥をクラスタに分類する手段とを付加する。この様にすれば、パターン欠陥検査装置だけで欠陥解析が出来るので、簡単な欠陥解析であればレビュー装置による目視検査を省略して原因究明が可能になる。さらに、欠陥検査装置による分類を考慮してレビュー装置による再検査欠陥を選択するようにすれば、特異な欠陥を見落とすこともなくなり、全体としての欠陥発生原因の究明作業が大幅に迅速化できる。
Claim (excerpt)：
繰り返しパターンを含む部分が所定ピッチで配列された被検査物のパターンを検査するパターン欠陥検査装置に於いて、前記被検査物を固定し、前記繰り返しパターンを含む部分が配列された方向に移動させる試料台と、前記被検査物を前記試料台によって移動させつつ、前記被検査物の前記パターンをその移動方向と交差する方向に一次元方向に走査して得られる映像信号を入力する撮像手段と、前記撮像手段により得た前記映像信号を多値のディジタル信号に変換する変換手段と、前記映像信号を前記変換手段により変換した第1のディジタル信号と、前記第1のディジタル信号を得た走査位置から少なくとも前記所定ピッチ移動した位置で前記被検査物を前記撮像手段で走査して得た映像信号を前記変換手段により変換した第2のディジタル信号とを比較し前記パターンの欠陥領域を抽出する比較手段と、前記比較手段によって抽出された前記欠陥領域に含まれた個々の欠陥の特徴量として、少なくとも、前記欠陥領域の面積,寸法,周囲長、前記欠陥領域の画像の濃淡値、前記欠陥領域に対応する正常領域の画像の濃淡値、前記欠陥領域に対応する正常領域の画像を空間微分して得た画像の濃淡値、前記パターンの欠陥が抽出されない正常領域と前記欠陥領域の差として得られる画像の濃淡値、前記欠陥領域に対応する設計パターン画像の濃淡値、前記欠陥領域に対応する別のセンサ画像の濃淡値から計算される特徴量のうちの少なくとも一つの特徴量を、前記欠陥領域の抽出に同期して計算する計算手段と、前記計算された特徴量によって前記個々の欠陥を分類する分類手段と、前記分類手段によって分類された結果を表示する表示手段とを備えたことを特徴とするパターン欠陥検査装置。
IPC (4)：
H01L 21/66 ,  G01B 11/24 ,  G01N 21/88 ,  G06T 7/00
FI (6)：
H01L 21/66 J ,  H01L 21/66 Z ,  G01B 11/24 F ,  G01B 11/24 K ,  G01N 21/88 E ,  G06F 15/62 405 A
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (2)

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