Pat

J-GLOBAL ID：200903074012888260

窒素除去装置

Inventor： 中野 一郎 ,  丸山 裕司
Applicant, Patent owner： 株式会社クボタ
Agent (1)： 森本 義弘
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1998099768
Publication number (International publication number)：1999290882
Application date： Apr. 13, 1998
Publication date： Oct. 26, 1999
Summary：

【要約】【課題】 硝化菌固定化担体を槽内に保持できるとともに良好に流動させることができ、かつ維持管理が容易な窒素除去装置を提供する。【解決手段】 処理水流出部を囲んで垂直方向に担体分離スクリーン15を設け、担体分離スクリーン15の近傍の上流側位置に仕切壁17を設け、仕切壁17より上流側の下部に散気装置14を設置することにより、仕切壁17より上流側に曝気処理領域18を形成し、下流側に、曝気処理領域18に上端開口17aで連通する下向流路19を形成する。担体分離スクリーン15としては、ウェッジワイヤスクリーンを垂直方向に配置する。担体分離スクリーン15に沿う下向流となるため、担体やし渣・ゴミ等が付着しにくい。

Claim (excerpt)：

硝化菌固定化担体を流動状態に保持する好気槽の内部に、処理水流出部を囲んで垂直方向に担体分離スクリーンを設けるとともに、前記担体分離スクリーンの近傍の上流側位置に、上端開口と下端開口とを有する仕切壁を設け、前記仕切壁より上流側に散気装置を設置することにより、仕切壁より上流側に曝気処理領域を形成し、仕切壁より下流側に、曝気処理領域に連通する下向流路を形成し、前記担体分離スクリーンとしてウェッジワイヤスクリーンを用いたことを特徴とする窒素除去装置。

IPC (3)：

C02F 3/08 ZAB ,  C02F 3/22 ,  C02F 3/34 101

FI (3)：

C02F 3/08 ZAB B ,  C02F 3/22 D ,  C02F 3/34 101 D

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (3)

• 廃水処理装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平7-275477   Applicant：日立プラント建設株式会社
• 汚水の処理装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平6-158698   Applicant：日立プラント建設株式会社, 日本下水道事業団
• 深層曝気槽
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平7-208562   Applicant：株式会社荏原製作所