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J-GLOBAL ID：200903074114076324

マスクパターン設計装置

Inventor：
諸岡 寿史

About 諸岡 寿史


Applicant, Patent owner：
大日本印刷株式会社

About 大日本印刷株式会社


Agent (1)： 小西 淳美
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1996039127
Publication number (International publication number)：1997212543
Application date： Feb. 02, 1996
Publication date： Aug. 15, 1997
Summary：
【要約】 (修正有)【課題】 所望の光強度分布を得ることを確認しながらマスクパターンを生成する。【解決手段】 所定の命令表現から図形データを生成するマスクパターン設計部120、マスクパターンデータを保持するマスクパターンデータファイル蓄積部122、生成・編集した図形データに対応するウエハー等の被転写物上の光強度分布をシミュレーションにより算出する光強度分布シミュレーション部130、及び検討する必要があると入力部の命令により指定された図形データを、マスクパターンデータから抽出し、編集する図形データ編集部140を備え、算出された光強度分布シミュレーションデータの集合から構成されるシミュレーションデータをファイルとして光強度分布シミュレーションファイル蓄積部132に保持する。
Claim (excerpt)：
ウエハー等へ投影露光によりパターン転写を行う為のフオトマスクのマスクパターン設計装置であって、少なくとも、命令を入力する入力部と、入力部から入力された所定の命令表現から図形データを生成するマスクパターン設計部と、生成した図形データの集合から構成されるマスクパターンデータをファイルとして保持するマスクパターンデータファイル蓄積部と、生成された図形データを図形として表示するマスクパターン表示部と、入力部により指定された前記生成された図形データないし該図形データから編集した図形データに対応するウエハー等の被転写物上の光強度分布をシミュレーションにより算出する光強度分布シミュレーション部と、光強度分布シミュレーション部で検討する必要があると入力部の命令により指定された図形データを、生成された図形データの集合から構成されるマスクパターンデータから抽出し、編集する図形データ編集部と、算出された光強度分布シミュレーションデータの集合から構成されるシミュレーションデータをファイルとして保持する光強度分布シミュレーションファイル蓄積部とを備えていることを特徴とするマスクパターン設計装置。
IPC (2)：
G06F 17/50 ,  H01L 21/82
FI (2)：
G06F 15/60 658 M ,  H01L 21/82 C
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (4)
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