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J-GLOBAL ID：200903074130125718

脱水環化を使用して3-ヒドロキシテトラヒドロフランを製造する方法

Inventor： キャック、ビュン ション ,  キム、テ ユン ,  キム、ジン ウン ,  リ、サン イル ,  コ、キ ホ
Applicant, Patent owner： エスケー ホルディングス カンパニー リミテッド
Agent (9)： 萼 経夫 ,  宮崎 嘉夫 ,  加藤 勉 ,  小山 京子 ,  小野塚 薫 ,  田上 明夫 ,  ▲高▼ 昌宏 ,  森 則雄 ,  山田 清治
Gazette classification：公表公報
Application number (International application number)：2008549400
Publication number (International publication number)：2009522350
Application date： Jan. 10, 2006
Publication date： Jun. 11, 2009
Summary：

【課題】脱水環化を使用した3-ヒドロキシテトラヒドロフランの製造方法を提供する。【解決手段】開示するのは、脱水環化を使用した3-ヒドロキシテトラヒドロフランの製造方法である。更に詳しくは、本発明は、3-ヒドロキシテトラヒドロフランを製造する方法であって、硫酸基を交換基として有する強酸性陽イオン交換樹脂触媒の存在下で、反応温度30°C〜180°C及び反応圧力5000psig(3.44×10MPa)又はそれ未満の反応条件下で、1,2,4-ブタントリオールを脱水環化させることを含む方法に関する。本発明の方法によれば、慣用の方法を使用する場合よりも、高い収率及び生産性にて、3-ヒドロキシテトラヒドロフランを経済的に製造することができる。【選択図】なし

Claim (excerpt)：

脱水環化を使用して3-ヒドロキシテトラヒドロフランを製造する方法であって、強酸性イオン交換樹脂触媒の存在下で、回分式又は連続固定床反応器を使用して、反応温度30°C〜180°C及び反応圧力5000psig(3.44×10MPa)又はそれ未満の反応条件下で、ラセミ体純度又は光学純度を有する1,2,4-ブタントリオールを反応物として脱水環化せしめて、該反応物のラセミ体純度又は光学純度に等しいラセミ体純度又は光学純度を有する3-ヒドロキシテトラヒドロフランを高収率で得ることからなる方法。

IPC (1)：

C07D 307/20

FI (1)：

C07D307/20

F-Term (3)：

4C037DA05 ,  4H039CA42 ,  4H039CH20

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (1)

• 米国特許第4,539,415号明細書
  

Cited by examiner (2)

• 光学活性環状化合物の製造方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平7-255840   Applicant：高砂香料工業株式会社
• 3-ヒドロキシテトラヒドロフランの製造方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2000-007994   Applicant：鐘淵化学工業株式会社

Article cited by the Patent：

Cited by examiner (1)

• "Synthesis of Enantiomerically Pure (S)-(+)-3-Hydroxytetrahydrofuran, and Its (R)-Enantiomer, from M