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J-GLOBAL ID:200903074208320164
搬送アーム洗浄装置
Inventor:
Applicant, Patent owner:
,
Agent (1):
佐々木 聖孝
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1993351269
Publication number (International publication number):1995201797
Application date: Dec. 27, 1993
Publication date: Aug. 04, 1995
Summary:
【要約】[目的]搬送アームの洗浄および乾燥処理を高い効率で良好かつ安全に行える搬送アーム洗浄装置を提供する。[構成]洗浄室28は、室内の中心部に設けられたZX面内で延在する仕切り板30によって、第1洗浄室28Aと第2洗浄室28Bとに分割されている。洗浄室28の上面には、両搬送アーム120A,120Bがそれぞれ洗浄室28にほぼ垂直方向に出入りできるようにするための開口22A,22Bを有する遮蔽板22が設けられている。第1および第2洗浄室28A,28Bにおいて洗浄スプレー用配管34より幾分高い位置で各搬送アーム通路32A,32Bの両側(内側および外側)には、それぞれ一対の液切り用のガス配管(36A,38A),(36B,38B)がほぼ水平(X方向)に設けられている。
Claim (excerpt):
複数の板状の被処理体を所定の間隔を置いて配列した状態で一対の搬送アームで把持して搬送する搬送装置の前記搬送アームを洗浄するための搬送アーム洗浄装置において、前記搬送アームが上面開口からほぼ垂直方向に出入りできるように構成された洗浄室と、前記洗浄室内で各々の吐出口を前記搬送アームの通路上に設定された所定の高さの洗浄位置に向けて前記搬送アームの通路の片側または両側にほぼ水平方向に一列または複数列に配置された多数の洗浄ノズルと、前記洗浄ノズルに洗浄液を供給する洗浄液供給手段と、前記洗浄室内で各々の吐出口を前記搬送アームの通路上に設定された前記洗浄ノズルの洗浄位置よりも高い所定の液切り位置に向けて前記搬送アームの通路の片側または両側にほぼ水平方向に一列または複数列に配置され、ほとんどの吐出口はノズル配列方向に対してほぼ垂直な面内で斜め下向きになっている多数のガスノズルと、前記ガスノズルに乾燥用のガスを供給するガス供給手段と、を具備することを特徴とする搬送アーム洗浄装置。
IPC (6):
H01L 21/304 341
, H01L 21/304 351
, B08B 3/02
, B08B 3/04
, B25J 15/08
, H01L 21/68
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (1)
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基板保持具洗浄装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平5-322417
Applicant:大日本スクリーン製造株式会社
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