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J-GLOBAL ID：200903074245874536
異物等の欠陥検出方法および検査装置
Inventor：
,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
小川 勝男
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1994139848
Publication number (International publication number)：1995072093
Application date： Jun. 22, 1994
Publication date： Mar. 17, 1995
Summary：
【要約】【目的】本発明は、ホトマスク等の回路パターン付基板、特に転写解像度の向上等を目的とした位相シフト膜を有するレチクル上に付着したサブミクロンオーダーの微細な異物等の欠陥等の欠陥を安定して検出する装置を提供することにある。【構成】試料表面側(2、20、波長約780nm)および試料裏面側(3、30、波長約488nm)から斜方照明を行い、試料表面側のNA0.4以上の光学系(41)で、発生する散乱光を集光、照明方向別に波長分離して、フーリエ変換面上に設けた空間フィルタ(44、444)により回路パターンからの回折光を遮光、検出器(51)上に結像させる検出光学系(4)と、検出器の検出値を照明むらに合わせて補正する回路(113、123)と2×2画素の検出値の加算値を求める回路および検出器がその周囲4方向へ1画素ずつシフトした4つの加算値の最大値を求める回路(114、124)と、最大値をの2値化結果の論理積を求める回路(57)等から構成される。
Claim (excerpt)：
遮光膜、光半透過膜、あるいは光透過膜で形成されたパターンを有する透明または半透明基板試料の製造時、あるいは該試料の保管時、運搬時、使用時に用いられる該試料上に付着した異物等の欠陥を検出する異物等の欠陥検出方法および検査装置において、前記を載置してX、Y、Zの各方向へ任意に移動可能なステージおよびその駆動制御系からなる検査ステージ部と、前記基板のパターン面に反射照明を行う第1の照明系と、透過照明を行う第2の照明系と、直接反射光および直接透過光は集光せず、基板から発生する散乱光および回折光を集光して、照明方向別に光線分離し、分離後の各フーリエ変換面上に設けた空間フィルタによりパターンからの回折光および散乱光を遮光して、各々第1、第2の検出器上に結像する検出光学系と、検出結果を前記基板試料上の異物等の欠陥データとして演算表示する信号処理系とを備えることを特徴とする異物等の欠陥の検出方法および検査装置において、前記第1、第2の検出器の出力を比較手段により異物等の欠陥の検出を判定する手段を備えたことを特徴とする異物等の欠陥の検出方法および検査装置。
IPC (2)：
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (10)
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