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J-GLOBAL ID：200903074262911500

洗浄方法及び洗浄システム

Inventor： 大見 忠弘 ,  自在丸 隆行 ,  新田 雄久
Applicant, Patent owner： 大見 忠弘 ,  株式会社ウルトラクリーンテクノロジー開発研究所
Agent (1)： 福森 久夫
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1996270353
Publication number (International publication number)：1998116809
Application date： Oct. 11, 1996
Publication date： May. 06, 1998
Summary：

【要約】【課題】 フォトレジスト等の有機膜を室温で剥離除去することができ、単純な構造の有機物を、他の物質と混合なしに希釈だけで使用するため洗浄液が長時間にわたって劣化せず、しかも洗浄効果が高く、極めて優れた特徴を有する洗浄方法及び洗浄システムを提供することを目的とする。【解決手段】 水溶性有機溶媒又はその希釈液からなる槽内中の洗浄水に超音波を照射しながら基体を浸漬することにより基体に付着する有機被膜を除去することを特徴とする。あるいは基体に超音波の照射された上記洗浄液を噴射する。水溶性有機溶媒はアセトン、IPA、エタノール等である。イオン注入装置等に隣接して、上記洗浄を行う洗浄装置を設けたことを特徴とする。

Claim (excerpt)：

水溶性有機溶媒又はその希釈液からなる槽内中の洗浄水に超音波を照射しながら基体を浸漬することにより基体に付着する有機被膜を除去することを特徴とする洗浄方法。

IPC (6)：

H01L 21/304 341 ,  H01L 21/304 ,  B08B 3/12 ,  C11D 7/26 ,  C11D 7/50 ,  H01L 21/027

FI (7)：

H01L 21/304 341 T ,  H01L 21/304 341 M ,  H01L 21/304 341 N ,  B08B 3/12 A ,  C11D 7/26 ,  C11D 7/50 ,  H01L 21/30 572 B

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (5)

• リフトオフ装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平4-022456   Applicant：株式会社村田製作所
• 特開平4-146616
  
• 半導体装置及びその製造方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平5-332216   Applicant：富士通株式会社
• 特開平4-146616
  
• 特開平4-146616