光触媒膜の形成方法

Inventor： , , , , , ,
Applicant, Patent owner： , ,
Agent (1)：大島泰甫 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1999104914
Publication number (International publication number)：2000296332
Application date： Apr. 13, 1999
Publication date： Oct. 24, 2000
Summary：

【要約】【課題】高活性、強い膜強度の光触媒膜を低温で形成する。【解決手段】プラスチック等からなる基板8を基板ホルダ7に固定し、るつぼに金属材料からなる蒸着原料5を入れ、励起線源6から酸素イオン、酸素ラジカル、酸素プラズマの混合励起線を基板8に照射する。これと同時に蒸着原料5に電子線4を当てて加熱することにより蒸発させ、基板8上に付着させて金属酸化物を成膜して、光触媒膜を形成する。

Claim (excerpt)：

イオン、電子あるいは活性粒子の存在下で、金属原料または金属酸化物原料を用いて蒸着法またはスパッタ法によって基板上に成膜して光触媒膜を形成することを特徴とする光触媒膜の形成方法。

IPC (10)：

B01J 21/08 ZAB , B01J 21/08 , B01D 53/86 , B01D 53/94 , B01J 21/06 , B01J 35/02 , B01J 37/02 301 , B01J 37/02 , C23C 14/08 , C23C 14/10

FI (13)：

B01J 21/08 ZAB A , B01J 21/08 M , B01J 21/06 A , B01J 21/06 M , B01J 35/02 J , B01J 37/02 301 P , B01J 37/02 301 Q , C23C 14/08 E , C23C 14/10 , B01D 53/36 J , B01D 53/36 G , B01D 53/36 102 D , B01D 53/36 104 Z

F-Term (44)：

4D048AA06 , 4D048AA17 , 4D048AA22 , 4D048AB01 , 4D048AB02 , 4D048AB03 , 4D048BA06X , 4D048BA07X , 4D048BB03 , 4D048BB20 , 4G069AA03 , 4G069AA08 , 4G069AA11 , 4G069BA03B , 4G069BA04B , 4G069BA22A , 4G069BA22B , 4G069BA48A , 4G069BB06B , 4G069CA01 , 4G069CA02 , 4G069CA08 , 4G069CA10 , 4G069CA11 , 4G069CA13 , 4G069CA17 , 4G069DA06 , 4G069EA08 , 4G069FA03 , 4G069FB02 , 4K029AA11 , 4K029AA25 , 4K029BA46 , 4K029BA48 , 4K029BB02 , 4K029BC00 , 4K029BC07 , 4K029CA01 , 4K029CA05 , 4K029CA08 , 4K029CA09 , 4K029DB05 , 4K029DB21 , 4K029FA07

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (5)

触媒作用を利用した抗菌・防カビ部材及び製造方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平6-332117 Applicant：日本軽金属株式会社
光触媒用酸化チタン含有膜被覆基体及びその製造方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平6-279087 Applicant：工業技術院長, 日新電機株式会社
光触媒体
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平8-247307 Applicant：株式会社ブリヂストン

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