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J-GLOBAL ID：200903074411192350

ガスクラスターイオンビームによる 超精密研磨加工方法

Inventor： 安達 直祐 ,  山田 公
Applicant, Patent owner： 新技術事業団 ,  安達新産業株式会社
Agent (1)： 西澤 利夫
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1994262910
Publication number (International publication number)：1996120470
Application date： Oct. 26, 1994
Publication date： May. 14, 1996
Summary：

【要約】【構成】 ガスクラスターイオンビームを照射して固体表面を超精密研磨する。【効果】 ガスクラスターイオンを用いるため、原子レベルでの超精密研磨が可能で、イオンの持つエネルギーが通常のイオンエッチングと異なり低いため低損傷での研磨が可能となる。

Claim (excerpt)：

ガスクラスターイオンビームを照射して固体表面を研磨することを特徴とする超精密研磨加工方法。

IPC (2)：

C23F 4/00 ,  B24B 1/00

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (9)

• 特開平3-163825
  
• 特開平2-129386
  
• 特開平4-354865
  
• 研削研磨砥石のツルーイング方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平4-143547   Applicant：オリンパス光学工業株式会社
• 研磨装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平4-045343   Applicant：松下電器産業株式会社
• 特開昭57-158378
  
• 特開昭62-296976
  
• 特開昭61-125759
  
• ガスクラスターイオンビームによる固体表面の 平坦化方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平7-057587   Applicant：新技術事業団, 三洋電機株式会社