ガスクラスターイオンビームによる超精密研磨加工方法

Inventor： ,
Applicant, Patent owner： ,
Agent (1)：西澤利夫
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1994262910
Publication number (International publication number)：1996120470
Application date： Oct. 26, 1994
Publication date： May. 14, 1996
Summary：

【要約】【構成】ガスクラスターイオンビームを照射して固体表面を超精密研磨する。【効果】ガスクラスターイオンを用いるため、原子レベルでの超精密研磨が可能で、イオンの持つエネルギーが通常のイオンエッチングと異なり低いため低損傷での研磨が可能となる。

Claim (excerpt)：

ガスクラスターイオンビームを照射して固体表面を研磨することを特徴とする超精密研磨加工方法。

IPC (2)：

C23F 4/00 , B24B 1/00

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (9)

特開昭62-296976
特開昭61-125759
特開昭57-158378

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Cited by examiner (15)

特開平3-163825
特開平3-163825
特開平2-129386

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ガスクラスターイオンビームによる 超精密研磨加工方法

ガスクラスターイオンビームによる超精密研磨加工方法